詳細(xì)摘要： NikonKrF光刻機(jī)NSR-S205C于2000年在新加坡生產(chǎn)，分辨率≤120nm
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青島佳鼎分析儀器有限公司
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詳細(xì)摘要： NikonKrF光刻機(jī)NSR-S205C于2000年在新加坡生產(chǎn)，分辨率≤120nm
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詳細(xì)摘要： NikonArF光刻機(jī)NSR-S305B出產(chǎn)于1999年，分辨率110nm
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詳細(xì)摘要： 尼康Nikoni-line光刻機(jī)NSR-2205i14E，生產(chǎn)于1997年，分辨率350nm，產(chǎn)能103wph
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詳細(xì)摘要： 尼康NikonKrF光刻機(jī)NSR-2205EX14C生產(chǎn)于1997年，采用248nmKrF曝光光源，分辨率50nm
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詳細(xì)摘要： 尼康NikonKrF光刻機(jī)NSR-S201A生產(chǎn)于1995年，分辨率≦250nm，是一臺掃描儀
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詳細(xì)摘要： 尼康Nikon二手翻新i-line光刻機(jī)NSR-4425i生產(chǎn)于1994年，分辨率700nm
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詳細(xì)摘要： TWINSCANNXT:2000i為高級邏輯和DRAM節(jié)點(diǎn)的大批量制造提供出色的覆蓋、聚焦控制和交叉匹配
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詳細(xì)摘要： 主要特點(diǎn)和優(yōu)勢TWINSCANNXT:2050i建立在面向未來的NXT4平臺之上，突破了重疊限制，并為浸沒式光刻系統(tǒng)提供了的生產(chǎn)力
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詳細(xì)摘要： ASML二手翻新ARF光刻機(jī)NXT:1470采用193nmARF光源，分辨率57nm，產(chǎn)能300wph
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詳細(xì)摘要： asml二手現(xiàn)貨DUV光刻機(jī)XT:1460K采用193nmARF光源，分辨率65nm，產(chǎn)能205wph
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詳細(xì)摘要： ASML二手翻新現(xiàn)貨DUV光刻機(jī)XT:1060K，采用248nmKRF曝光光源，分辨率80nm，產(chǎn)能205wph
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詳細(xì)摘要： ASML二手現(xiàn)貨DUV光刻機(jī)XT:860M，采用248nmKRF光源，分辨率110nm，產(chǎn)能240wph
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詳細(xì)摘要： ASML二手現(xiàn)貨DUV光刻機(jī)XT:400L，分辨率350nm，產(chǎn)能230wph
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詳細(xì)摘要： ASML二手翻新DUV光刻機(jī)NXT:1965Ci，采用193nmARF曝光光源，分辨率38nm，產(chǎn)能250wph
產(chǎn)品型號：所在地：更新時(shí)間：2023-04-16 在線留言
詳細(xì)摘要： ASML通過將NXT:1950i上的系統(tǒng)吞吐量提高15%–20%來解決光刻成本問題
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詳細(xì)摘要： 樣品容量：全200mm晶片、150mm晶片、晶片碎片和短柱安裝樣品
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詳細(xì)摘要： SUSSMA300Gen2掩模對準(zhǔn)器用于300毫米和200毫米晶圓的高度自動化光刻對準(zhǔn)平臺
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詳細(xì)摘要： ASML二手翻新現(xiàn)貨ARF光刻機(jī)XT:1400E適用于300nm大小的晶圓，產(chǎn)能180wph
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詳細(xì)摘要： SUSSMA2003代光刻機(jī)專為大批量生產(chǎn)而設(shè)計(jì)，適用于200毫米以下晶圓和方形襯底的自動化加工
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詳細(xì)摘要： SUSSMicroTec為熱門化合物半導(dǎo)體工藝專門設(shè)計(jì)了一款新型光刻平臺：MA100/150eGen2
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