詳細(xì)摘要： SUSSMA12掩膜對準(zhǔn)器用于工業(yè)研究和低成本生產(chǎn)的手動光刻機(jī)
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-04-16 在線留言
青島佳鼎分析儀器有限公司
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詳細(xì)摘要： SUSSMA12掩膜對準(zhǔn)器用于工業(yè)研究和低成本生產(chǎn)的手動光刻機(jī)
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詳細(xì)摘要： MA/BAGen4系列掩膜和鍵合對準(zhǔn)器——實驗室及小批量生產(chǎn)用小型光刻機(jī)平臺蘇斯公司的MA/BA4代系列是一代的半自動光刻和鍵合對準(zhǔn)機(jī)，并引進(jìn)了新的平臺系統(tǒng)
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詳細(xì)摘要： 佳能KrF光刻機(jī)FPA-6300ESW采用248nmKRF曝光光源，分辨率130nm，專為12英寸晶圓設(shè)計
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詳細(xì)摘要： FPA-3030i5+步進(jìn)器旨在滿足并超越物聯(lián)網(wǎng)和MEMS制造商的要求
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詳細(xì)摘要： FPA-3030i5a支持直徑為200毫米或更小的較小基板
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詳細(xì)摘要： FPA-3030iWa支持直徑為200毫米或更小的較小基板
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詳細(xì)摘要： 光學(xué)系統(tǒng)曝光時間調(diào)解器：0.1至999.9秒(可調(diào)節(jié)精度0.1s)
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詳細(xì)摘要： 光學(xué)系統(tǒng)曝光時間調(diào)解器：0.1至999.9秒(可調(diào)節(jié)精度0.1s)
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詳細(xì)摘要： FA系列全自動正/雙面對準(zhǔn)（TSV/BSV）光刻機(jī)截止到2012年1月，ABM公司在世界范圍售出了500多臺光刻機(jī)，50多臺單獨曝光系統(tǒng)
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詳細(xì)摘要： FA系列全自動正/雙面對準(zhǔn)（TSV/BSV）光刻機(jī)截止到2012年1月，ABM公司在世界范圍售出了500多臺光刻機(jī)，50多臺單獨曝光系統(tǒng)
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詳細(xì)摘要： ASML二手現(xiàn)貨ArF光刻機(jī)部分信息-193nm-軌道預(yù)警信號（APR）：APR啟用-避免跟蹤輸入/輸出沖突
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詳細(xì)摘要： ASML二手翻新現(xiàn)貨ArF光刻機(jī)AT:1100采用193nmArF曝光光源，針對于300mm晶圓處理的雙級光刻平臺
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詳細(xì)摘要： ASMLArF光刻機(jī)AT:1200作為其綜合成像設(shè)施的一部分，SUNYPoly擁有一臺TWINSCANAT:1200193nm“干式"掃描儀；（0.85NA）
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詳細(xì)摘要： ASML二手翻新現(xiàn)貨KrF光刻機(jī)AT:750是248nm深紫外系統(tǒng)
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詳細(xì)摘要： MIDAS二手光刻機(jī)MDA-4000由韓國邁斯達(dá)公司與2005年生產(chǎn)
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詳細(xì)摘要： PAS2000是一種全自動晶圓步進(jìn)機(jī)，旨在以快速吞吐量和維持正常運行時間為每個晶圓生產(chǎn)盡可能多的芯片，這些因素對于高效生產(chǎn)集成電路至關(guān)重要
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詳細(xì)摘要： ASML二手現(xiàn)貨i-line光刻機(jī)PAS2500/40適用于6英寸晶圓，采用365nm的i-line曝光光源
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詳細(xì)摘要： ASMLi-line光刻機(jī)PAS5000/40使用0.40NAi-line鏡頭，像場直徑為21.1mm
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詳細(xì)摘要： PAS5500/100Di線步進(jìn)設(shè)計用于0.4µm的大規(guī)模生產(chǎn)，在其可變數(shù)值孔徑(NA)保持功能性的同時實現(xiàn)的吞吐量
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詳細(xì)摘要： ASMLARF光刻機(jī)PAS5500/1100B支持8"/200mm工藝節(jié)點
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