詳細(xì)摘要： PAS5500/1150C193nm步進(jìn)掃描系統(tǒng)能夠?qū)崿F(xiàn)成本效益的90nmArF批量生產(chǎn)
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青島佳鼎分析儀器有限公司
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詳細(xì)摘要： PAS5500/1150C193nm步進(jìn)掃描系統(tǒng)能夠?qū)崿F(xiàn)成本效益的90nmArF批量生產(chǎn)
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詳細(xì)摘要： ASML推出了一種用于0.35微米成像的新型i-line光刻系統(tǒng)，旨在幫助客戶從0.5微米以上的制造技術(shù)過渡到更嚴(yán)格的分辨率
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詳細(xì)摘要： ASMLPAS5500/275D是一款高吞吐量i-line步進(jìn)機(jī)
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詳細(xì)摘要： ASMLPAS5500/300C每小時(shí)能夠處理88個(gè)（200毫米）晶圓
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詳細(xì)摘要： PAS5500/350C是一款深紫外步進(jìn)器，適用于0.15-μm及以上的應(yīng)用
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詳細(xì)摘要： ASMLPAS5500/400是步進(jìn)式和掃描式光刻系統(tǒng)
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詳細(xì)摘要： 4x投影鏡頭，與ASML的AERIAL照明器相結(jié)合，可提供280nm分辨率
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詳細(xì)摘要： ASMLi-line光刻機(jī)PAS5500/450F是i-line步進(jìn)器系列的、的產(chǎn)品之一
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詳細(xì)摘要： ASMLi-line光刻機(jī)PAS5500/60是具有自動(dòng)100mm晶圓盒處理能力的i-line系統(tǒng)
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詳細(xì)摘要： ASMLDUV光刻機(jī)PAS5500/750E掃描儀是ASML針對(duì)200毫米晶圓分辨率要求低于0.15微米的解決方案
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詳細(xì)摘要： ASML二手翻新現(xiàn)貨ARF光刻機(jī)AT:1100是一款步進(jìn)式ARF掃描儀，可在300mm的晶圓上進(jìn)行100nm體積的生產(chǎn)
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詳細(xì)摘要： Nikon尼康二手i-lineStepperi線光刻機(jī)NSR2205i11D生產(chǎn)于1997年，解析度≤350nm
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詳細(xì)摘要： CLEANTRACK™LITHIUS™是一款300/200mm涂布機(jī)/顯影機(jī)
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詳細(xì)摘要： SCREEN單片式半導(dǎo)體清洗設(shè)備SU3100具有8個(gè)內(nèi)置腔室，吞吐量能夠達(dá)到300wph
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詳細(xì)摘要： CS4800提供高質(zhì)量的SEM成像、改進(jìn)的測(cè)量精度以及快速、自動(dòng)化的操作，旨在提高現(xiàn)有生產(chǎn)線的生產(chǎn)力和運(yùn)營(yíng)效率，并提高客戶的過程控制能力
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詳細(xì)摘要： SEMVisionG2的檢測(cè)組裝和處理使微小和淺缺陷的高質(zhì)量地形圖像成為可能
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詳細(xì)摘要： 愛發(fā)科ULVAC蒸發(fā)鍍膜設(shè)備蒸發(fā)臺(tái)EBX-1000生產(chǎn)于2002年
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詳細(xì)摘要： HITACHIKOKUSAIAsherRAM-8500ZX，針對(duì)于8英寸晶圓Asher設(shè)備，生產(chǎn)于1996年
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詳細(xì)摘要： 設(shè)備描述及主要配置機(jī)臺(tái)針對(duì)4寸晶圓后端制程設(shè)計(jì)，用于單片清洗
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詳細(xì)摘要： SM-200具有高度的均勻性和可重復(fù)性，以及操作方便和操作舒適性
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：更新時(shí)間：2023-04-15 在線留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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