詳細摘要： Surfscan®SP2和SP2XP系統(tǒng)是KLA革命性的SurfscanSP1平臺的第二代產(chǎn)品，用于無圖案晶圓檢測
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-04-15 在線留言
青島佳鼎分析儀器有限公司
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詳細摘要： Surfscan®SP2和SP2XP系統(tǒng)是KLA革命性的SurfscanSP1平臺的第二代產(chǎn)品，用于無圖案晶圓檢測
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詳細摘要： TOPCON拓普康芯片外觀檢測設(shè)備Vi4202可以全自動檢查在晶片上圖案化的芯片和在擴展前切割的晶片（表面朝上/背面朝上）中的微小異物和缺陷，并以芯片為單位確定...
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詳細摘要： AspenIII基于具有接地法拉第屏蔽的專有ICP源設(shè)計，為半導(dǎo)體制造商提供經(jīng)過生產(chǎn)驗證且具有成本效益的剝離和蝕刻解決方案
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詳細摘要： ACCµRAPlus是一種專為±0.5µm精度設(shè)計的全自動模式
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詳細摘要： SET倒裝鍵合設(shè)備NEOHB是一種在獨立或全自動模式下為±1um@30精度設(shè)計的倒裝式鍵合器(EFEMJ)，適用于混合/直接鍵合工藝
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詳細摘要： ASMLDUV光刻機PAS5500/750FDUV步進和掃描系統(tǒng)使用成熟的248-nmKrF技術(shù)實現(xiàn)130nm量產(chǎn)
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詳細摘要： ASML浸沒式光刻機XT:1900i是XT：1700Fi的自然擴展，通過提供40nm的半間距分辨率，支持半導(dǎo)體行業(yè)所要求的設(shè)備縮小的持續(xù)驅(qū)動器
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詳細摘要： ASML二手i-line光刻機PAS5500/80，具有500nm分辨率和為4英寸晶圓設(shè)置，但可轉(zhuǎn)換為3英寸或6英寸平臺，21mmx21mm視場大小，1.3μm...
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詳細摘要： ASMLKRF光刻機PAS5500/800提供0.80數(shù)值孔徑(NA)
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詳細摘要： ASMLKrF光刻機PAS5500/850C248nm步進-掃描系統(tǒng)可實現(xiàn)110nm的批量生產(chǎn)
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詳細摘要： ASMlKrF光刻機PAS5500/850D248nm步進掃描系統(tǒng)支持110nm量產(chǎn)
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詳細摘要： PAS5500/8TFH-AKrF步進掃描系統(tǒng)是一種專用的光刻工具，用于在125毫米、150毫米和200mmAlTiC晶片上生產(chǎn)薄膜頭(TFH)
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詳細摘要： TWINSCANXT:1000H248nm步進掃描系統(tǒng)是一種新型雙級KrF光刻工具，具有業(yè)界的NA和生產(chǎn)率，設(shè)計用于200mm和300mm晶圓生產(chǎn)
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詳細摘要： TWINSCANXT:1250–一款0.85NA、193nm量產(chǎn)光刻掃描儀，可將成像擴展到200mm和300mm晶圓上的65nm節(jié)點
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詳細摘要： ASMLTwinscanAT1250B是步進和掃描儀系統(tǒng)
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詳細摘要： XT:1250i是ASML發(fā)布的TWINSCANXT:1250的浸入式版本
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詳細摘要： 隨著TWINSCANXT：1400Ei的發(fā)布，使用ArF浸入式光刻生產(chǎn)65nm體積現(xiàn)在成為現(xiàn)實
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詳細摘要： ASMLHoldingNV(ASML)于2006年末推出了其的TWINSCAN系統(tǒng)，這是一種*的193納米(nm)曝光系統(tǒng)，具有成像、覆蓋和吞吐量改進的特點
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詳細摘要： TWINSCANXT:1900GiStep-and-Scan系統(tǒng)是一種高生產(chǎn)率的雙級浸沒式光刻工具，專為45納米及以下分辨率的300毫米晶圓批量生產(chǎn)而設(shè)計
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-04-14 在線留言
詳細摘要： TWINSCANXT:400G365nm步進掃描系統(tǒng)是一種超高生產(chǎn)率的雙級光刻工具，專為350nm分辨率的300mm晶圓批量生產(chǎn)而設(shè)計
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-04-14 在線留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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