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岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司


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Thetametrisis膜厚儀FR-Mic 微米級薄膜表征

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產(chǎn)品型號

品       牌

廠商性質(zhì)其他

所  在  地上海

聯(lián)系方式:卜先生查看聯(lián)系方式

更新時間:2026-07-20 10:58:20瀏覽次數(shù):139次

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經(jīng)營模式:其他

商鋪產(chǎn)品:100條

所在地區(qū):上海上海

聯(lián)系人:卜先生

產(chǎn)品簡介

膜厚儀FR-Mic是一款快速、準(zhǔn)確測量薄膜表征應(yīng)用的模塊化解決方案,可以將光斑縮小到幾個微米,進(jìn)而分析微小區(qū)域或者粗糙表面薄膜特征

詳細(xì)介紹

膜厚儀 FR-Mic 是一款快 速、準(zhǔn)確測量薄膜表征應(yīng)用的模塊化解決方案,可以將光斑縮小到幾個微米,進(jìn)而分析微小區(qū)域或者粗糙表面薄膜特征。它可以配備一臺專用計算機(jī)控 制的 XY 工作臺,使其快 速、方便和準(zhǔn)確地描繪樣品的厚度和光學(xué)特性 。也可以搭配自動平臺測量 400x400mm 大小樣品。

Thetametrisis膜厚儀


Thetametrisis利用 FR-Mic,通過紫外/ 可見/ 近紅外可輕易對局部區(qū)域薄膜厚度,厚度映射,光學(xué)常數(shù),反射率,折射率及消光系數(shù)進(jìn)行測量。

【相關(guān)應(yīng)用】


  • 高校 & 研究所實驗室
  • 半導(dǎo)體制造 (氧化物/氮化物, 硅膜, 光刻膠及其他半導(dǎo)體薄膜.)
  • MEMS 器件 (光刻膠, 硅膜等.)
  • LEDs, VCSELs 多層膜測量應(yīng)用
  • 數(shù)據(jù)存儲
  • 陽極處理氧化膜
  • 曲面基底的硬化涂層
  • 聚合物膜層, 粘合劑.
  • 生 物醫(yī)學(xué)(聚對二甲苯, 生物膜/氣泡壁厚度.)
  • OEM或客制化應(yīng)用

【特點】



  • 實時光譜測量
  • 薄膜厚度,光學(xué)特性,非均勻性測量, 厚度映射
  • 使用集成 USB 高品質(zhì)彩色攝像機(jī)進(jìn)行成像 (所視即所測)
file.png


【技術(shù)參數(shù)】

型號

UV/VIS

UV/NIR-EXT

UV/NIR-HR

DUV/NIR

VIS/NIR

DVIS/NIR

NIR

NIR-N2

光譜波長范圍(nm)

200–850

200–1020

200-1100

200–1700

370–1020

370–1700

900–1700

900-1050

光譜儀像素

3648

3648

3648

3648 & 512

3648

3648 & 512

512

3648

膜厚測量范圍

5X- VIS/NIR

4nm-60um

4nm-70um

4nm-90um

4nm-150um

15nm-90um

15nm-150um

100nm-150um

4um-1mm(SiO2)

10X- UV/VIS/NIR

4nm-50um

4nm-60um

4nm-80um

4nm-130um

15nm-80um

15nm-130um

100nm-130um

4um-400um(Si)

15X- UV/NIR

4nm-40um

4nm-50um

4nm-50um

4nm-120um

-

-

20X- UV/VIS/NIR

4nm-25um

4nm-30um

4nm-30um

4nm-50um

15nm-30um

15nm-50um

100nm-50um

40X- UV/NIR

4nm-4um

4nm-4um

4nm-5um

4nm-6um

-

-

50X- VIS/NIR

-

-

-

-

15nm-5um

15nm-5um

100nm-5um

測量n&k蕞小厚度

50nm

50nm

50nm

50nm

100nm

100nm

500nm

準(zhǔn)度 3.

0.1% or 1nm

0.2% or 2nm

50nm or 0.2%

精度 4..

0.02nm

0.02nm

5nm

重覆性 5.

0.05nm

0.05nm

5nm

光源

氘燈&鹵素?zé)?/span>(internal)

鹵素?zé)?/span>(internal)10000 小時 (MTBF)

材料數(shù)據(jù)庫

>650內(nèi)建材料數(shù)據(jù)庫



*測量面積(收集反射或透射信號的面積)與顯微鏡物鏡和 FR-uProbe 的孔徑大小有關(guān)。


物鏡

光斑尺寸(μm)

500μm孔徑

250μm孔徑

100μm孔徑

5x

100μm

50μm

20μm

10x

50μm

25μm

10μm

20x

25μm

17μm

5μm

50x

10μm

5μm

2μm


【工作原理】


Thetametrisis膜厚儀FR-Mic工作原理.jpg



  1. 規(guī)格如有更改,恕不另行通知
  2. 測量結(jié)果與校準(zhǔn)的光譜橢偏儀和 XRD 相比較,
  3. 連續(xù) 15 天測量的標(biāo)準(zhǔn)方差平均值。樣品:(1um SiO2 on Si.) ,
  4. 100 次厚度測量的標(biāo)準(zhǔn)方差,樣品:1um SiO2 on Si.
  5. 超過 15 天的標(biāo)準(zhǔn)偏差日平均值樣品:1um SiO2 on Si。
  6. 使用反射式物鏡


以上資料來自Thetametrisis,如果有需要更加詳細(xì)的信息,請聯(lián)系我們獲取。

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