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行業(yè)產(chǎn)品

  • 行業(yè)產(chǎn)品

上海德竹芯源科技有限公司


  • 5252DB 5G高頻段傳播特性測(cè)量平臺(tái)

    詳細(xì)摘要: 高頻段傳播特性測(cè)量平臺(tái)主要針對(duì)毫米波段進(jìn)行信號(hào)傳播特性測(cè)試,包括 MIMO 信道參數(shù)分析、建模能力以及 SISO 天線參數(shù)解析能力測(cè)試。其多通道收發(fā)一體、高性能...

    產(chǎn)品型號(hào):所在地:上海更新時(shí)間:2024-07-29 在線留言

  • IFR4000 VOR/ILS 導(dǎo)航通信航線測(cè)試儀

    詳細(xì)摘要: IFR 4000 是一個(gè)緊湊、輕便和防風(fēng)雨的單元,專為測(cè)試 ILS、VOR、標(biāo)記信標(biāo)和甚高頻/超高頻通信航空電子系統(tǒng)而設(shè)計(jì)。

    產(chǎn)品型號(hào):所在地:上海更新時(shí)間:2024-07-29 在線留言

  • IFR6000 應(yīng)答機(jī)/DME/TCAS航線測(cè)試儀

    詳細(xì)摘要: IFR6000 是一個(gè)緊湊、輕便和防風(fēng)雨的單元,旨在測(cè)試轉(zhuǎn)發(fā)器模式 A/C/S、1090 MHz ADS-B 和 978 MHz UAT、TCAS I 和 II...

    產(chǎn)品型號(hào):所在地:上海更新時(shí)間:2024-07-28 在線留言

  • TDS紅外加熱型質(zhì)譜儀

    詳細(xì)摘要: 紅外加熱型升溫脫附質(zhì)譜儀TDS1200II是一種通過(guò)質(zhì)譜儀實(shí)時(shí)觀測(cè)樣品在超高真空中編程升溫時(shí)脫附的分子的分析儀。

    產(chǎn)品型號(hào):所在地:上海更新時(shí)間:2024-07-28 在線留言

  • SENTECH-激光橢偏儀 - (SE 400adv)

    詳細(xì)摘要: 激光橢偏儀 SE 400adv 測(cè)量透明薄膜的厚度和折射率指數(shù),具有測(cè)量速度、亞埃級(jí)別的厚度精度和折射率測(cè)定的精度。多角度測(cè)量允許使用激光橢偏儀 SE 400a...

    產(chǎn)品型號(hào):SE 400adv所在地:上海更新時(shí)間:2024-06-09 在線留言

  • SENTECH-光譜橢偏儀 - (SENpro)

    詳細(xì)摘要: 光譜橢偏儀 SENpro 具有操作簡(jiǎn)單,測(cè)量速度快,能對(duì)不同入射角的橢偏測(cè)量數(shù)據(jù)進(jìn)行組合分析等特點(diǎn)。光譜范圍為 370 到 1050 nm。SENpro 的光譜...

    產(chǎn)品型號(hào):SENpro所在地:上海更新時(shí)間:2024-06-06 在線留言

  • ASTRO-CA100 接觸角測(cè)量?jī)x

    詳細(xì)摘要: 接觸角測(cè)定儀,用于測(cè)量固體、液體和氣體三相之間的接觸角。通過(guò)測(cè)量接觸角,計(jì)算、測(cè)定液體對(duì)固體的附著力,固體表面張力和固體表面能等指標(biāo)。該儀器可用于半導(dǎo)體制造、新...

    產(chǎn)品型號(hào):ASTRO-CA100所在地:上海更新時(shí)間:2024-05-12 在線留言

  • ADEPT 1010 動(dòng)態(tài)二次離子質(zhì)譜儀

    詳細(xì)摘要: 動(dòng)態(tài)二次離子質(zhì)譜儀(D-SIMS)是使用一次離子束(通常是Cs源)轟擊樣品表面,而產(chǎn)生二次離子,然后用質(zhì)譜分析儀分析二次離子的質(zhì)荷比(m/q),從而得知元素在樣...

    產(chǎn)品型號(hào):ADEPT 1010所在地:上海更新時(shí)間:2024-01-21 在線留言

  • 等離子體增強(qiáng)原子層沉積系統(tǒng)

    詳細(xì)摘要: 金屬有機(jī)物前驅(qū)體和反應(yīng)氣體在真空腔體交替填充、覆蓋且反應(yīng),形成原子級(jí)精度(厚度和原子排布)的薄膜。

    產(chǎn)品型號(hào):ALD-SC6-PE / ALD-SC8-PE/ ALD-SC12-PE所在地:上海更新時(shí)間:2024-01-19 在線留言

  • P-300B 原子層沉積系統(tǒng)

    詳細(xì)摘要: PICOSUN? P-300 系統(tǒng)擁有的熱壁、獨(dú)立的前驅(qū)體管路和特殊的載氣設(shè)計(jì),確??梢陨a(chǎn)出具有優(yōu)異的成品率、低顆粒水平和的電學(xué)和光學(xué)性能的高質(zhì)量 ALD 薄...

    產(chǎn)品型號(hào):P-300B所在地:上海更新時(shí)間:2024-01-17 在線留言

  • R-200 Standard 原子層沉積系統(tǒng)

    詳細(xì)摘要: PICOSUN? R-200 標(biāo)準(zhǔn) ALD 系統(tǒng)適用于數(shù)十種應(yīng)用的研發(fā),例如 IC 組件、MEMS 設(shè)備、顯示器、LED、激光器和 3D 對(duì)象,例如透鏡、光學(xué)器...

    產(chǎn)品型號(hào):R-200 Standard所在地:上海更新時(shí)間:2024-01-15 在線留言

  • R-200 Advance 原子層沉積系統(tǒng)

    詳細(xì)摘要: Picosun R-200 系列原子層沉積系統(tǒng)是一款多功能的原子層沉積平臺(tái),是用于研發(fā)的理想選擇,適用于 IC 器件、MEMS 器件、顯示器、LED、激光器以及...

    產(chǎn)品型號(hào):R-200 Advance所在地:上海更新時(shí)間:2024-01-13 在線留言



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