真空用步進(jìn)電機(jī)

? 兩大基礎(chǔ)系列

（兩相）步距角：1.8°法蘭規(guī)格：28/42/56/60/86mm（NEMA 標(biāo)準(zhǔn)）適合：一般高真空，半導(dǎo)體真空平臺(tái)、真空平移臺(tái)

（五相，真空主力款）?步距角：0.72°，細(xì)分后定位精度ji gao 、振動(dòng)小法蘭：28/42/60mm優(yōu)勢(shì)：低速平穩(wěn)、分辨率高，是真空精密定位shou xuan ；可做到UHV 超高真空，最高耐溫可達(dá) 200℃，可做耐輻照版本（空間 / 核設(shè)備）

真空定制改造要點(diǎn)（真空電機(jī)標(biāo)準(zhǔn)改動(dòng)）

• 繞組：Kapton 聚酰亞胺低放氣絕緣，無普通油漆

• 軸承潤(rùn)滑：UHV 版本采用固體干膜潤(rùn)滑（二硫化鉬）；高真空版本全氟聚醚真空潤(rùn)滑脂；出廠烘烤除氣，控制 TML/CVCM 放氣指標(biāo)

• 線纜：PI/PTFE 低逸出導(dǎo)線，真空饋通接頭配套，普通橡膠線纜全部剔除

• 殼體：無噴漆，不銹鋼 / 裸鋁合金

• 可選配置：內(nèi)置真空編碼器閉環(huán)（防失步）、真空電磁剎車、減速齒輪（諧波 / 行星減速）、雙出軸

驅(qū)動(dòng)器依然放在大氣側(cè)，不進(jìn)真空腔

真空能力

• 低真空、高真空、超高真空 UHV（10??Pa 級(jí)別）均可定制

• UHV 機(jī)型支持高溫烘烤除氣（腔體烘烤）

• 散熱：真空無對(duì)流，必須降額使用，高功率方案可增加熱沉 / 水冷

• 極限耐溫：最高 200℃，可定制低溫版本

典型應(yīng)用

半導(dǎo)體 PVD/ALD 鍍膜機(jī)、真空探針臺(tái)、真空光學(xué)調(diào)整臺(tái)、電子顯微鏡內(nèi)部運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)、同步輻射、航天真空艙、科研超高真空實(shí)驗(yàn)平臺(tái)。

1. 目標(biāo)真空度（是否 UHV、是否需要腔體烘烤溫度）

2. 法蘭尺寸（28/42/60…）、保持扭矩、轉(zhuǎn)速、占空比

3. 兩相 1.8° / 五相 0.72°

4. 是否要內(nèi)置編碼器、剎車、減速

5. 放氣指標(biāo) TML/CVCM、是否耐輻射

6. 線纜出線方式、饋通接口