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  沉積系統(tǒng)

原子層沉積系統(tǒng)

PLD/PED薄膜沉積系統(tǒng)

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北京正通遠(yuǎn)恒科技有限公司

經(jīng)營(yíng)模式：代理商

商鋪產(chǎn)品：64條

所在地區(qū)：北京北京市

聯(lián)系人：劉小姐（市場(chǎng)）

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原子層沉積系統(tǒng)

詳細(xì)摘要： PICOFLOW?系統(tǒng)的目的是減緩反應(yīng)氣體從反應(yīng)腔中排出，從而增加其在反應(yīng)腔中的停留時(shí)間。這允許前驅(qū)體有更長(zhǎng)的時(shí)間擴(kuò)散至樣品表面，對(duì)于提高通孔、高度曲折、納米多...
產(chǎn)品型號(hào)：PICOFLOW 擴(kuò)散增強(qiáng)所在地：北京市更新時(shí)間：2026-06-29 在線留言
原子層沉積系統(tǒng)ALD R-200 Advanced

詳細(xì)摘要：原子層沉積系統(tǒng)ALD R-200 AdvancedPICOSUN? R系列ALD產(chǎn)品能夠沉積高質(zhì)量薄膜，即使襯底結(jié)構(gòu)十分復(fù)雜，如多孔材料、高深寬比的溝槽或者納米...
產(chǎn)品型號(hào)：ALD R-200 Advanced所在地：北京市更新時(shí)間：2026-06-29 在線留言
原子層沉積系統(tǒng)

詳細(xì)摘要： PICOSUN? P系列量產(chǎn)ALD系統(tǒng)定義了高產(chǎn)量ALD的新時(shí)代。我們?nèi)詣?dòng)化、真空集群與產(chǎn)線兼容的原子層沉積系統(tǒng)確保了zui大的產(chǎn)出效率，并且具有*的工藝純度...
產(chǎn)品型號(hào)：ALD P-200 Pro所在地：北京市更新時(shí)間：2026-06-29 在線留言
原子層沉積系統(tǒng)ALD R-200 Standard

詳細(xì)摘要：原子層沉積系統(tǒng)ALD R-200 StandardPICOSUN? R系列ALD產(chǎn)品能夠沉積高質(zhì)量薄膜，即使襯底結(jié)構(gòu)十分復(fù)雜，如多孔材料、高深寬比的溝槽或者納米...
產(chǎn)品型號(hào)：ALD R-200 Standard所在地：北京市更新時(shí)間：2026-06-29 在線留言
PLD薄膜沉積系統(tǒng)

詳細(xì)摘要： PLD薄膜沉積系統(tǒng)是一種用途廣泛的薄膜沉積技術(shù)。脈沖激光快速蒸發(fā)靶材，生成與靶材組成相同的薄膜。PLD的*之處是能量源（脈沖激光）位于真空室的外面。這樣，在材料...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：北京市更新時(shí)間：2026-06-29 在線留言