- 設(shè)備特點(diǎn)
-
- 專業(yè)的磁控濺射源和腔室結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)有效提高靶材利用率
- 高離化率的磁控濺射源設(shè)計(jì)帶來良好的臺(tái)階覆蓋率表現(xiàn)
- 針對(duì)封裝領(lǐng)域優(yōu)化的穩(wěn)定的傳輸系統(tǒng),兼容多種類型的基片
- 專業(yè)的偏壓基座設(shè)計(jì),良好的冷卻性能
- 優(yōu)化的工藝流程帶來大產(chǎn)能表現(xiàn),低運(yùn)營(yíng)成本
- 產(chǎn)品應(yīng)用
-
- 晶圓尺寸8、12英寸
- 適用材料銅、鈦、氮化鈦、鉭、氮化鉭
- 適用工藝2.5D/3D TSV沉積
- 適用領(lǐng)域封裝


































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