詳細(xì)摘要： TWINSCANXT:450G365-nm步進(jìn)式掃描系統(tǒng)是一種高生產(chǎn)率的雙級光刻工具，設(shè)計用于批量生產(chǎn)分辨率低至220-nm及以上的關(guān)鍵i-line應(yīng)用
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青島佳鼎分析儀器有限公司
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詳細(xì)摘要： TWINSCANXT:450G365-nm步進(jìn)式掃描系統(tǒng)是一種高生產(chǎn)率的雙級光刻工具，設(shè)計用于批量生產(chǎn)分辨率低至220-nm及以上的關(guān)鍵i-line應(yīng)用
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詳細(xì)摘要： ASML二手翻新DUV光刻機(jī)生產(chǎn)于2006年，可針對于300mm尺寸的晶圓進(jìn)行處理
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詳細(xì)摘要： 尼康的這款i-line光刻機(jī)NSR2205i12D是歡迎的光刻系統(tǒng)之一
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詳細(xì)摘要： Novellus二手翻新刻蝕系統(tǒng)Gamma2130，屬Asher類設(shè)備，針對于12英寸(300mm)晶圓處理
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詳細(xì)摘要： AMAT二手金屬化學(xué)氣相沉積設(shè)備CenturaAPISPRINT，針對于300nm晶圓，主機(jī)類型為CenturaAP，工藝采用WCVD，擁有4個腔室，3個裝載端...
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詳細(xì)摘要： AMAT等離子化學(xué)氣相沉積PECVD設(shè)備producerse，生產(chǎn)于2003年，采用PETEOS工藝，針對12英寸（300mm）晶圓處理
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詳細(xì)摘要： ASM二手化學(xué)氣相沉積PECVD設(shè)備Dragon2300生產(chǎn)于2003年，針對12寸（300nm）晶圓處理
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詳細(xì)摘要： ASM二手化學(xué)氣相沉積CVD設(shè)備Eagla10采用DARC流程工藝，針對于8英寸晶圓的處理，現(xiàn)貨供應(yīng)
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詳細(xì)摘要： novellus化學(xué)氣相沉積mocvd設(shè)備vectorexpress，購買于2004年，針對12英寸晶圓設(shè)計使用
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詳細(xì)摘要： 半導(dǎo)體工藝技術(shù)一直在不斷縮小規(guī)模并朝著3D結(jié)構(gòu)發(fā)展，這對薄膜沉積提出了挑戰(zhàn)
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詳細(xì)摘要： AMAT二手刻蝕系統(tǒng)CenturaEnabler，于2010年開始使用，采用氧化物刻蝕法，針對12英寸晶圓進(jìn)行處理
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-04-13 在線留言
詳細(xì)摘要： Axcelis二手刻蝕系統(tǒng)Integra于2012年投入使用，針對于12英寸晶圓的蝕刻處理
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詳細(xì)摘要： Hitachi日立二手刻蝕系統(tǒng)DM421P與1995年投入使用，針對于8英寸晶圓的刻蝕工藝
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詳細(xì)摘要： Mattson二手刻蝕設(shè)備ParadigmE于2012年開始使用，針對于12寸晶圓的刻蝕處理
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-04-12 在線留言
詳細(xì)摘要： Mattson二手刻蝕系統(tǒng)ParadigmEXP于2010年投入使用，針對于12英寸晶圓的LightEtch工藝
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-04-12 在線留言
詳細(xì)摘要： TEL二手刻蝕設(shè)備TactrasVigus-0于2012年開始使用
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詳細(xì)摘要： TEL二手Furnace設(shè)備Indy-A采用DCSNit工藝，于2005年投入使用，適用于12英寸晶圓
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詳細(xì)摘要： TEL二手Furnace爐設(shè)備Indy-B于2012年開始投入使用，采用DCSNit工藝，適用于12英寸晶圓
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詳細(xì)摘要： CanonAnelva二手物理氣相沉積PVD設(shè)備FC7100于2011年開始投入使用，適用于12英寸晶圓
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詳細(xì)摘要： Novellus二手濺射設(shè)備Inova于1999年投入使用，適用于8英寸晶圓
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-04-12 在線留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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