NMC 508M為高密度等離子體刻蝕機，適用6/8英寸金屬干法刻蝕工藝。具備良好的鋁線形貌控制能力、高刻蝕速率、高刻蝕均勻性、低顆粒/缺陷等性能優(yōu)勢。該機臺為多腔室集群設(shè)備，含金屬腔和去膠腔組合，可全自動并行工藝，PM維護周期長，性能穩(wěn)定，產(chǎn)能高，客戶擁有成本低 。已廣泛量產(chǎn)應(yīng)用于集成電路、化合物半導(dǎo)體、功率半導(dǎo)體、硅基微型顯示、科研等領(lǐng)域中的金屬鋁、鎢等刻蝕工藝。