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目錄:北方華創(chuàng)科技集團股份有限公司>>半導體裝備>>等離子刻蝕設備>> NMC 508RIE介質(zhì)刻蝕機

介質(zhì)刻蝕機

  • 介質(zhì)刻蝕機
參考價 面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
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  • 品牌
  • 型號 NMC 508RIE
  • 廠商性質(zhì) 其他
  • 所在地 北京市
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更新時間：2025-09-06 07:21:03瀏覽次數(shù)：159評價

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NMC 508RIE 介質(zhì)刻蝕機
NMC 508RIE Dielectric Etcher
NMC 508RIE為電容耦合等離子體干法刻蝕機，適用6/8英寸介質(zhì)層刻蝕工藝，具有高刻蝕速率和均勻性，工藝類型覆蓋前道和后道所有介質(zhì)刻蝕。該機臺為多腔室集群設備，可全自動并行工藝、易維護、性能穩(wěn)定、產(chǎn)能高、客戶擁有成本低。
設備特點
  • 多頻CCP模式，工藝窗口大
  • 高刻蝕速率和高刻蝕均勻性
  • 低擁有成本、低運營成本
產(chǎn)品應用
  • 晶圓尺寸
    6/8 英寸兼容
  • 適用材料
    氧化硅、氮化硅、氮氧化硅
  • 適應工藝
    鈍化層、硬掩膜、接觸孔、導線孔、側(cè)襯、自對準、回刻等刻蝕
  • 適用領域
    集成電路、化合物半導體、功率半導體、科研領域

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