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管式低壓化學(xué)氣相沉積設(shè)備

  • 管式低壓化學(xué)氣相沉積設(shè)備
參考價 面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
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  • 品牌
  • 型號 HORIS L12
  • 廠商性質(zhì) 其他
  • 所在地 北京市
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更新時間:2025-09-06 08:11:18瀏覽次數(shù):237評價

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HORIS L12 管式低壓化學(xué)氣相沉積設(shè)備
HORIS L12 LPCVD System
HORIS L12系列管式LPCVD主要用于156mm及以上的TOPCon光伏高效電池的超薄隧穿氧化層和Poly薄膜工藝,該設(shè)備為多管結(jié)構(gòu),每管可單獨(dú)工藝。設(shè)備主要包括上下料系統(tǒng)、反應(yīng)室系統(tǒng)、真空控制系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)、水平傳輸系統(tǒng)、電氣控制系統(tǒng)等部件組成。主要的工藝模塊是用于電池背面形成載流子選擇性通過的隧穿氧化層,有助于提高電池開壓,達(dá)到提升電池效率的目的。
設(shè)備特點(diǎn)
  • 多路進(jìn)氣方式以及前后雙勻流設(shè)計(jì)保證高質(zhì)量薄膜工藝均勻性
  • 高強(qiáng)度石英舟結(jié)構(gòu)和雙層密封反應(yīng)腔室保障低運(yùn)營成本,實(shí)現(xiàn)超高設(shè)備稼動率
  • 超大承載機(jī)構(gòu)設(shè)計(jì)以及專項(xiàng)升級的抓取機(jī)構(gòu)
  • 采用的閉環(huán)壓控系統(tǒng),確保成膜速度和均勻性
  • 具備多種鍍膜技術(shù),如多層復(fù)合膜、摻雜多晶硅技術(shù)
產(chǎn)品應(yīng)用
  • 適用硅片尺寸
    156mm~230mm
  • 裝片量
    1300~2860(單槽雙插)片 / 管
  • 單機(jī)臺管數(shù)
    5、6、10、12 管 / 系統(tǒng)
  • 工藝種類
    氧化硅、多晶硅、摻磷多晶硅、摻硼多晶硅
  • 溫度范圍
    600~1000℃
  • 適用領(lǐng)域
    新能源光伏

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