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目錄:北方華創(chuàng)科技集團(tuán)股份有限公司>>半導(dǎo)體裝備>>氧化擴(kuò)散設(shè)備>> Hesper TO230R12英寸單片減壓原位濕法氧化系統(tǒng)

12英寸單片減壓原位濕法氧化系統(tǒng)

  • 12英寸單片減壓原位濕法氧化系統(tǒng)
參考價(jià) 面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
參考價(jià) 面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 品牌
  • 型號(hào) Hesper TO230R
  • 廠商性質(zhì) 其他
  • 所在地 北京市
屬性

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更新時(shí)間:2025-09-06 08:17:00瀏覽次數(shù):107評(píng)價(jià)

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Hesper TO230R 12英寸單片減壓原位濕法氧化系統(tǒng)
Hesper TO230R 12 Inch Single Wafer Reduced Pressure In Situ Steam Generation System
Hesper TO230R 12英寸單片減壓原位濕法氧化系統(tǒng)適用于集成電路、功率半導(dǎo)體、襯底材料、科研等領(lǐng)域,單腔或多腔多種設(shè)計(jì),可滿足不同客戶需求,低擁有成本和低運(yùn)營(yíng)成本。
設(shè)備特點(diǎn)
  • 16區(qū)加熱設(shè)計(jì), 溫場(chǎng)均勻性優(yōu)
  • 單腔/多腔多種設(shè)計(jì),可滿足不同客戶需求
  • 低擁有成本、低運(yùn)營(yíng)成本
  • 友好的人機(jī)交互和安全性設(shè)計(jì)保障系統(tǒng)穩(wěn)定、安全、高效
產(chǎn)品應(yīng)用
  • 晶圓尺寸
    12英寸
  • 適用材料
    二氧化硅
  • 適用工藝
    濕法氧化、減壓Spike
  • 適用領(lǐng)域
    集成電路、功率半導(dǎo)體、襯底材料、科研領(lǐng)域

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