THEORIS A302立式退火爐在中低溫條件下，通入N?、H?或D?等氣體，以消除硅片界面處金屬及非金屬晶格缺陷和晶格損傷，優(yōu)化硅片界面質(zhì)量，提升器件良率。該系統(tǒng)具備高精度的溫度控制系統(tǒng)、良好的金屬控制能力、高穩(wěn)定的傳輸系統(tǒng)以及安全的特氣處理裝置，兼顧了良好的工藝指標(biāo)、高產(chǎn)能和安全可靠性。