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目錄:北方華創(chuàng)科技集團股份有限公司>>半導(dǎo)體裝備>>氧化擴散設(shè)備>> THEORIS X302P12英寸立式中溫氧化爐

12英寸立式中溫氧化爐

  • 12英寸立式中溫氧化爐
參考價 面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
參考價 面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 品牌
  • 型號 THEORIS X302P
  • 廠商性質(zhì) 其他
  • 所在地 北京市
屬性

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更新時間:2025-09-06 08:26:46瀏覽次數(shù):185評價

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THEORIS X302P 12英寸立式中溫氧化爐
THEORIS X302P 12 Inch Vertical Mid-Temp Oxidation Furnace
THEORIS X302P主要用于12英寸600℃-1000℃氧化及退火工藝。該機臺為立式單腔爐管系統(tǒng),工藝處理過程實現(xiàn)了高度自動化。系統(tǒng)主要由傳輸模塊、工藝模塊、電源柜等部分組成。
設(shè)備特點
  • 顆??刂萍夹g(shù)
  • 高精度溫度場控制技術(shù)
  • 的微環(huán)境氧含量控制技術(shù)
  • 高產(chǎn)能
產(chǎn)品應(yīng)用
  • 晶圓尺寸
    12英寸
  • 適用材料
    硅
  • 適用工藝
    干氧氧化、濕氧氧化、DCE氧化、摻氮氧化、退火
  • 適用領(lǐng)域
    集成電路、功率半導(dǎo)體、襯底材料

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