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伯東 KRI 考夫曼離子源 Gridded RFICP 系列

參考價(jià)
¥700000-¥2000000
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 型號(hào)
  • 品牌其他品牌
  • 所在地國(guó)外
  • 更新時(shí)間2025-10-25
  • 廠商性質(zhì)代理商
  • 所在地區(qū)上海市
  • 實(shí)名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量200
  • 人氣值10470
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         位于中國(guó)上海浦東外高橋保稅區(qū)的伯東企業(yè)(上海)有限公司創(chuàng)建于1995年12月,, 是日本伯東株式會(huì)社獨(dú)資設(shè)立的外商投資企業(yè),公司注冊(cè)資金為200萬(wàn)美元,到目前為止公司從業(yè)員工有400多人。
         伯東企業(yè)(上海)有限公司真空產(chǎn)品事業(yè)部()專業(yè)銷售及維修德國(guó)Pfeiffer單雙級(jí)旋片泵,干泵,羅茨泵,分子泵;應(yīng)用于各種條件下的真空測(cè)量(真空計(jì), 真空規(guī)管);檢漏儀,質(zhì)譜儀,真空系統(tǒng)等等, 維修技術(shù)力量雄厚,保證 100 % 擁有標(biāo)準(zhǔn)的德國(guó)Pfeiffer原廠測(cè)試設(shè)備及調(diào)整工具和德國(guó)Pfeiffer專業(yè)培訓(xùn)工程師,多年來(lái)致力于真空系統(tǒng)的安裝、調(diào)試、維修、拆機(jī)、保養(yǎng)等,具有優(yōu)良的專業(yè)技能和服務(wù)意識(shí),并獲得原廠*維修資質(zhì)證書。利用 Pfeiffer 進(jìn)口檢測(cè)設(shè)備對(duì)維修后的產(chǎn)品做*性能測(cè)試。

          另外公司還是美國(guó) inTEST 高低溫沖擊測(cè)試機(jī), 德國(guó) 普發(fā) Pfeiffer  真空設(shè)備, 美國(guó)  KRI 考夫曼離子源, 日本  NS 離子蝕刻機(jī), 美國(guó)  HVA 真空閥門, 美國(guó)  Gel-pak 芯片包裝盒,比利時(shí)Europlasma 等離子表面處理機(jī) , 日本  Atonarp過(guò)程質(zhì)譜儀  和  美國(guó) Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備 等進(jìn)口品牌的指定代理商 .我們真誠(chéng)期待與您的合作!



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產(chǎn)地進(jìn)口 加工定制否
上海伯東美國(guó) KRI 考夫曼離子源 RFICP 系列,無(wú)需燈絲提供高能量, 低濃度的離子束, 通過(guò)柵極控制離子束的能量和方向, 單次工藝時(shí)間更長(zhǎng),KRI 射頻離子源
伯東 KRI 考夫曼離子源 Gridded RFICP 系列 產(chǎn)品詳情

價(jià)格電議

KRI 考夫曼離子源 Gridded RFICP 系列

上海伯東美國(guó) KRI 考夫曼離子源 RFICP 系列,無(wú)需燈絲提供高能量, 低濃度的離子束, 通過(guò)柵極控制離子束的能量和方向, 單次工藝時(shí)間更長(zhǎng),

KRI 射頻離子源

RFICP  系列提供完整的套裝, 套裝包含離子源, 電子供應(yīng)器, 中和器, 電源控制等

RFICP  系列離子源是制造精密薄膜和表面的有效工具, 有效改善靶材的致密性光透射,均勻性,附著力等


KRI 射頻離子源
RFICP系列離子源應(yīng)用:

離子輔助鍍膜 IBAD( Ion beam assisted deposition in thermal & e-beam evaporation )

離子清洗 PC (In-situ preclean in sputtering & evaporation )

表面改性, 激活 SM (Surface modification and activation )

離子濺鍍IBSD (Ion beam sputter deposition of single and multilayer structures)

離子蝕刻 IBE (Ion beam etching of surface features in any material)



RFICP系列離子源技術(shù)參數(shù):

型號(hào)

RFICP 40

RFICP 100

RFICP 140

RFICP 220

Discharge 陽(yáng)極

RF 射頻

RF 射頻

RF 射頻

RF 射頻

- 燈絲陰極

無(wú)

無(wú)

無(wú)

無(wú)

- 射頻功率

0.6 kw

1kw

1kw

2kw

離子槍

離子束

離子束

離子束

離子束

- 柵極

根據(jù)實(shí)際應(yīng)用選配

- 對(duì)齊


自對(duì)準(zhǔn)


自對(duì)準(zhǔn)


自對(duì)準(zhǔn)


- 離子束直徑@柵極

4cm

10 或12cm

14cm

22cm

中和器

LFN 2000

LFN 2000

LFN 2000

LFN 2000

電源控制

RFICP 1510-2-06-LFNA

RFICP 1510-2-10-LFNA

RFICP 1510-2-10-LFNA

RFICP 1510-2-10-LFNA

配置





Cathode / Neutralizer

LFN1000 or MHC1000 or RFN

LFN2000 or MHC1000 or RFN

LFN2000 or MHC1000 or RFN

LFN2000 or MHC1000 or RFN

基座

法蘭或Remote

法蘭或Remote

法蘭或Remote

法蘭或Remote

高度

5.0 英寸

9.25 英寸

9.8英寸

11.8 英寸

直徑

5.3 英寸

7.52 英寸

9.8 英寸

16.1 英寸

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國(guó)創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)考夫曼離子源 Gridded 和霍爾離子源 Gridless. 美國(guó)考夫曼離子源歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展已取得多項(xiàng). 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射沉積 IBSD 領(lǐng)域, 上海伯東是美國(guó)考夫曼離子源 (離子槍) 中國(guó)總代理.

若您需要了解詳細(xì)信息, 歡迎聯(lián)絡(luò)上海伯東羅先生



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