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公司介紹主營產(chǎn)品

位于中國上海浦東外高橋保稅區(qū)的伯東企業(yè)（上海）有限公司創(chuàng)建于1995年12月，, 是日本伯東株式會(huì)社獨(dú)資設(shè)立的外商投資企業(yè)，公司注冊(cè)資金為200萬美元，到目前為止公司從業(yè)員工有400多人。
伯東企業(yè)（上海）有限公司真空產(chǎn)品事業(yè)部()專業(yè)銷售及維修德國Pfeiffer單雙級(jí)旋片泵，干泵，羅茨泵，分子泵；應(yīng)用于各種條件下的真空測(cè)量(真空計(jì), 真空規(guī)管)；檢漏儀，質(zhì)譜儀，真空系統(tǒng)等等, 維修技術(shù)力量雄厚，保證 100 % 擁有標(biāo)準(zhǔn)的德國Pfeiffer原廠測(cè)試設(shè)備及調(diào)整工具和德國Pfeiffer專業(yè)培訓(xùn)工程師，多年來致力于真空系統(tǒng)的安裝、調(diào)試、維修、拆機(jī)、保養(yǎng)等，具有優(yōu)良的專業(yè)技能和服務(wù)意識(shí)，并獲得原廠*維修資質(zhì)證書。利用 Pfeiffer 進(jìn)口檢測(cè)設(shè)備對(duì)維修后的產(chǎn)品做*性能測(cè)試。

另外公司還是美國 inTEST 高低溫沖擊測(cè)試機(jī), 德國普發(fā) Pfeiffer 真空設(shè)備, 美國 KRI 考夫曼離子源, 日本 NS 離子蝕刻機(jī), 美國 HVA 真空閥門, 美國 Gel-pak 芯片包裝盒,比利時(shí)Europlasma 等離子表面處理機(jī) , 日本 Atonarp過程質(zhì)譜儀和美國 Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備等進(jìn)口品牌的指定代理商 .我們真誠期待與您的合作!

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產(chǎn)品簡介在線詢價(jià)

產(chǎn)地	進(jìn)口	加工定制	否	適用領(lǐng)域	其他

上海伯東美國 KRI 射頻離子源 RFICP 系列, 無需燈絲提供高能量, 低濃度的離子束, 通過柵極控制離子束的能量和方向, 單次工藝時(shí)間更長! 射頻源 RFICP 系列提供完整的套裝, 套裝包含離子源本體, 電子供應(yīng)器, 中和器, 自動(dòng)控制器等. 射頻離子源是制造精密薄膜和表面的有效工具, 有效改善靶材的致密性, 光透射, 均勻性, 附著力等.

KRI 射頻離子源 RFICP 系列鍍膜機(jī) 產(chǎn)品詳情

價(jià)格電議

KRI 射頻離子源 RFICP 系列
上海伯東美國 KRI 射頻離子源 RFICP 系列, 無需燈絲提供高能量, 低濃度的離子束, 通過柵極控制離子束的能量和方向, 單次工藝時(shí)間更長! 射頻源 RFICP 系列提供完整的套裝, 套裝包含離子源本體, 電子供應(yīng)器, 中和器, 自動(dòng)控制器等. 射頻離子源是制造精密薄膜和表面的有效工具, 有效改善靶材的致密性, 光透射, 均勻性, 附著力等.

射頻離子源 RFICP 系列技術(shù)參數(shù):

型號(hào)	RFICP 40	RFICP 100	RFICP 140	RFICP 220	RFICP 380
Discharge 陽極	RF 射頻	RF 射頻	RF 射頻	RF 射頻	RF 射頻
離子束流	>100 mA	>350 mA	>600 mA	>800 mA	>1500 mA
離子動(dòng)能	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V
柵極直徑	4 cm Φ	10 cm Φ	14 cm Φ	20 cm Φ	30 cm Φ
離子束	聚焦, 平行, 散射
流量	3-10 sccm	5-30 sccm	5-30 sccm	10-40 sccm	15-50 sccm
通氣	Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型壓力	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr
長度	12.7 cm	23.5 cm	24.6 cm	30 cm	39 cm
直徑	13.5 cm	19.1 cm	24.6 cm	41 cm	59 cm
中和器	LFN 2000

射頻離子源 RFICP 系列應(yīng)用:
離子輔助鍍膜 IBAD ( Ion beam assisted deposition in thermal & e-beam evaporation )
離子清洗 PC (In-situ preclean in sputtering & evaporation )
表面改性, 激活 SM (Surface modification and activation )
離子濺鍍 IBSD (Ion beam sputter deposition of single and multilayer structures)
離子蝕刻 IBE (Ion beam etching of surface features in any material)

上海伯東離子源典型應(yīng)用: 射頻離子源 RFICP 325 安裝在 1650 mm 蒸鍍機(jī)中, 實(shí)現(xiàn)離子輔助鍍膜 IBAD 及預(yù)清潔 Pre-clean, 完成 LED-DBR 鍍膜生產(chǎn)
右圖: 在高倍顯微鏡下檢視脫膜測(cè)試, 樣品無崩邊

射頻離子源

上海伯東離子源典型應(yīng)用: 安裝在離子蝕刻機(jī)中的 KRI 射頻離子源, 對(duì)應(yīng)用于半導(dǎo)體后端的6寸晶圓進(jìn)行刻蝕. 右圖: 射頻離子源 RFICP 安裝于腔內(nèi)

射頻離子源

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展已取得多項(xiàng). 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領(lǐng)域, 上海伯東是美國考夫曼離子源中國總代理.

若您需要進(jìn)一步的了解 KRI 射頻離子源, 請(qǐng)聯(lián)絡(luò)上海伯東葉小姐,分機(jī)109

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產(chǎn)品名稱	參考價(jià)	地區(qū)	公司名稱	更新時(shí)間
sheen 自動(dòng)涂膜機(jī)	面議		軻潤實(shí)驗(yàn)器材（上海）有限公司	2025-11-30	在線詢價(jià)
激光雕刻煙霧凈化器切割亞克力除煙除味機(jī)	￥12500	深圳市	深圳市邁思赫環(huán)?？萍加邢薰?/span>	2025-10-16	在線詢價(jià)
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