無需使用化學藥品即可去除殘余應(yīng)力的干式拋光輪
加工對象: Silicon wafer, etc
DP08系列利用迪思科公司的干式拋光技術(shù),可以對超薄晶圓進行研磨。無需使用化學藥品, 因此對環(huán)境負荷小, 而且與使用研磨液?。ǜ啵┫啾?, 操作更容易,實現(xiàn)了高抗折強度的芯片。
實驗結(jié)果
研磨損傷比較(TEM觀察)
經(jīng)過干式拋光加工后,可除去晶圓中的研磨損傷。


抗折強度(球壓式抗折強度測量法)

| 工作物 | Φ8” 矽晶圓 |
| 最終加工厚度 | 200 µm |
表面粗糙度

| Wheel | DP08 |
| Ra (µm) | 0.0003 |
| Ry (µm) | 0.0017 |

| Wheel | Grinding wheel (#2000) |
| Ra (µm) | 0.0150 |
| Ry (µm) | 0.0800 |
技術(shù)規(guī)格


































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