- 設(shè)備特點(diǎn)
-
- 用于GaN功率器件、GaN射頻器件、GaN顯示器件的刻蝕設(shè)備
- 低損傷高精度刻蝕,兼容ALE功能
- 可調(diào)節(jié)的等離子體源設(shè)計(jì),寬闊的工藝窗口
- 專業(yè)的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),優(yōu)良的刻蝕均勻性
- 產(chǎn)品應(yīng)用
-
- 晶圓尺寸8英寸及以下
- 適用材料氮化鎵、氧化硅/氧化鈦、砷化鎵、磷化鎵、鋁鎵銦磷、氮化硅、鎢化鈦、有機(jī)物等
- 適用工藝多種材料刻蝕工藝
- 適用領(lǐng)域化合物半導(dǎo)體、Micro LED、科研領(lǐng)域




































张家口市|
徐汇区|
南投县|
宝兴县|
长岭县|
仁布县|
梧州市|
长寿区|
溆浦县|
隆德县|
申扎县|
阿坝县|
永济市|
治多县|
渑池县|
英山县|
普格县|
辉南县|
佛学|
马尔康县|
敦煌市|
义乌市|
伊宁市|
当阳市|
琼结县|
舒兰市|
崇阳县|
儋州市|
福海县|
昭苏县|
蓬溪县|
盐亭县|
长丰县|
尤溪县|
邹城市|
曲周县|
眉山市|
贵州省|
旺苍县|
镇江市|
依安县|