托托科技 DMD 無掩模紫外光刻機(jī)：微納制造柔性精密加工新方案

在微電子、生物醫(yī)藥、光學(xué)精密器件、MEMS 等制造領(lǐng)域，傳統(tǒng)有掩模光刻存在制版周期長、成本高、迭代靈活性不足等痛點，難以適配高?？蒲锌焖僭囧e、小批量定制化生產(chǎn)、特種微結(jié)構(gòu)研發(fā)等多元需求。托托科技（蘇州）有限公司自 2017年成立，依托百人專業(yè)技術(shù)團(tuán)隊、百余項自主知識產(chǎn)權(quán)，深耕精密光學(xué)儀器研發(fā)制造，推出基于 DMD 數(shù)字微鏡技術(shù)的全系列無掩模紫外光刻機(jī)，憑借無掩模、高精度、高適配、多場景的核心優(yōu)勢，為全行業(yè)微納加工提供一站式解決方案，產(chǎn)品客戶覆蓋香港城市大學(xué)等百余家科研院所與五百余家合作企業(yè)。

區(qū)別于單點式激光直寫加工方案，托托無掩模光刻機(jī)核心采用 DMD 數(shù)字微鏡陣列投影光刻技術(shù)，實現(xiàn)大面積同步圖案化曝光。整套系統(tǒng)由光源模組、勻光模組、DMD 模組、投影模組、高精度運動臺模組與配套控制軟件協(xié)同構(gòu)成，工作流程簡潔高效：上位機(jī)導(dǎo)入 GDS、DWG、DXF 格式圖形數(shù)據(jù)后傳輸至 DMD 模組，微鏡依據(jù)電信號精準(zhǔn)調(diào)整反射角度，將攜帶圖形信息的光束經(jīng)光學(xué)系統(tǒng)投射至基片表面；搭配高精度運動平臺完成多區(qū)域精準(zhǔn)拼接，一次性完成大尺寸、復(fù)雜微納圖案的轉(zhuǎn)移成型，兼顧加工精度與加工效率。

相較于傳統(tǒng)光刻設(shè)備，該系列無掩模光刻機(jī)具備多項不可替代的核心性能優(yōu)勢。設(shè)備無需制作掩模版，配套專屬直接繪圖功能，省去制版耗材與周期成本，科研人員、研發(fā)工程師可快速驗證設(shè)計思路；加工精度梯度覆蓋全面，常規(guī)機(jī)型滿足 1μm 基礎(chǔ)加工需求，掃描機(jī)型最小特征尺寸可達(dá) 0.3μm，多層套刻精度低至 250nm；曝光加工效率，設(shè)備加工速度可達(dá) 1200mm2/min，大幅縮短大面積樣品加工時長；加工幅面選擇豐富，標(biāo)準(zhǔn)機(jī)型覆蓋 2 英寸、6 英寸、8 英寸晶圓規(guī)格，定制機(jī)型可實現(xiàn) 4㎡、2 米級超大幅面微納加工。同時設(shè)備支持 4096 階灰度光刻選配，可精細(xì)調(diào)控曝光光強(qiáng)，精準(zhǔn)構(gòu)建具備層次變化的三維微觀結(jié)構(gòu)；主動對焦、綠光指引光精準(zhǔn)套刻、陣列光刻等特色功能，分別保障全程成像清晰、多層結(jié)構(gòu)對準(zhǔn)、工藝參數(shù)批量快速驗證，提升工藝穩(wěn)定性與研發(fā)效率。

結(jié)合不同用戶群體的使用需求，托托科技打造四大細(xì)分機(jī)型系列，精準(zhǔn)匹配科研、量產(chǎn)、教學(xué)、生命科學(xué)四大賽道?？蒲邪鏅C(jī)型采用步進(jìn)式光刻架構(gòu)，適配 6 英寸樣品，最小特征尺寸 0.4μm，多檔位鏡頭自由切換，兼顧靈活調(diào)試與高精度加工，是高校實驗室二維材料、量子光學(xué)、超表面等前沿課題研究主力設(shè)備；高速版為 8 英寸掃描式光刻設(shè)備，分為 UV Litho-S 與 UV Litho-S + 兩款，精度可達(dá) 0.3μm，峰值加工速度 1200–2500mm2/min，適用于掩模版自主制備、小批量器件量產(chǎn)，有效降低企業(yè)對外協(xié)加工的依賴；教育版為輕量化桌面機(jī)型，僅 2 英寸加工幅面，整機(jī)重量 75kg，占地空間小、操作門檻低，專為微電子、集成電路相關(guān)專業(yè)教學(xué)實驗打造；生命科學(xué)系列針對微流控行業(yè)定制，兼容 SU-8 超厚光刻膠，可實現(xiàn) 10:1 高深寬比結(jié)構(gòu)加工，支持 400μm 膠厚，適配單細(xì)胞分析、生物傳感器等生物醫(yī)療芯片研發(fā)。

托托科技 DMD 無掩模紫外光刻機(jī)在材料與微電子領(lǐng)域，設(shè)備專屬指引光功能可直接在二維材料表面繪制電極，同時支撐 MEMS 微米級精密圖形、多層復(fù)雜結(jié)構(gòu)加工；生物醫(yī)療方向依托生命科學(xué)機(jī)型完成各類微流控芯片制備；光學(xué)器件領(lǐng)域借助灰度光刻技術(shù)，批量生產(chǎn)微透鏡、菲涅爾透鏡、衍射光柵、防偽浮雕、光學(xué)調(diào)制器件與超表面結(jié)構(gòu)；量子光學(xué)領(lǐng)域可加工高精度光波導(dǎo)，實現(xiàn)量子態(tài)傳輸與操控。除此之外，設(shè)備可拓展多項定制化解決方案：針對磁性氧化物、Micro-LED、OLED 等厭水厭氧材料，可配套手套箱一體化機(jī)型；支持鉆石、光纖端面、水晶、曲面發(fā)動機(jī)葉片等特殊異形襯底光刻；面向超大尺寸工件需求，推出 2 米級超大幅面專屬加工設(shè)備，覆蓋實驗室基礎(chǔ)研究到工業(yè)定制生產(chǎn)全鏈條需求。

多年來，托托科技持續(xù)推動無掩模光刻技術(shù)從實驗室走向產(chǎn)業(yè)化落地。全系列無掩模紫外光刻機(jī)憑借靈活無掩模、高精度、高效率、多場景適配的綜合優(yōu)勢，打通微納器件設(shè)計、研發(fā)、加工全流程，為半導(dǎo)體、生物醫(yī)療、精密光學(xué)制造等行業(yè)提供穩(wěn)定可靠的精密光刻解決方案，助力國內(nèi)微納制造產(chǎn)業(yè)實現(xiàn)技術(shù)升級與創(chuàng)新突破。