托托科技高靈活性 高精度 科研版無掩模光刻機是專為科學研究場景打造的光刻設備,依托DMD無掩模光刻技術(shù)核心,適配微電子、集成電路、微納制造等領域的科研需求,核心包含UV Litho-ACA、UV Litho-ACA Pro+、UV Litho-ACA Master三款型號,核心參數(shù)與產(chǎn)品特點如下:
一、核心定位與通用優(yōu)勢
1. 專屬場景:面向高校、科研院所的科學研究,支持步進式/掃描式光刻兩種核心工藝,部分型號搭載光學主動對焦功能,保障光刻聚焦精度;
2. 通用規(guī)格:均支持6英寸加工幅面,樣品尺寸覆蓋3 mm×3 mm至150 mm×150 mm,樣品厚度0-10 mm,兼容GDS、DWG、DXF主流數(shù)據(jù)格式,標配405nm LED光源,380nm/390nm波長可按需選配;
3. 無掩模核心優(yōu)勢:省去制版的時間與資金成本,支持直接繪圖、精準套刻等特色功能,可快速驗證科研設計想法,大幅縮短研發(fā)迭代周期。
二、托托科技高靈活性 高精度 科研版無掩模光刻機各型號核心參數(shù)與差異

三、科研適配能力
1. 精度覆蓋:從0.4μm到0.8μm的特征尺寸,可滿足微納尺度的電極圖案、微米級結(jié)構(gòu)、多層套刻復雜工藝的科研需求,適配二維材料、MEMS、微透鏡、超表面等研究方向;
2. 工藝拓展:基礎款可選配灰度光刻功能,支持4096階灰度光刻,能構(gòu)建復雜層次的微觀結(jié)構(gòu),為光學衍射器件、防偽浮雕結(jié)構(gòu)等方向的科研提供工藝支撐;
3. 協(xié)同能力:可配合托托科技的特殊襯底光刻、手套箱版本等解決方案,適配鉆石、光纖等特殊襯底,以及磁性氧化物、Micro-LED等厭水/厭氧材料的光刻科研實驗。




整體而言,科研版無掩模光刻機通過梯度化的精度與效率設計,覆蓋了從基礎微納加工到高精度復雜結(jié)構(gòu)研發(fā)的全科研需求,是微電子、光電子、微機械等領域科研的核心設備。





































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