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托托科技 無(wú)掩模光刻機(jī)

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  • 型號(hào)
  • 品牌其他品牌
  • 所在地蘇州市
  • 更新時(shí)間2026-09-20
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 所在地區(qū)蘇州市
  • 實(shí)名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量50
  • 人氣值878
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自2017年創(chuàng)立以來(lái),托托科技始終深耕于精密光學(xué)儀器的研發(fā)和制造。公司憑借在微納光學(xué)加工及檢測(cè)領(lǐng)域的深厚積淀,打造了覆蓋無(wú)掩模光刻、高精度3D光刻、磁學(xué)檢測(cè)、光電檢測(cè)及3D顯微鏡五大核心產(chǎn)品線的技術(shù)矩陣,構(gòu)建了設(shè)計(jì)、研發(fā)、制造、銷售及咨詢服務(wù)的全鏈條生態(tài)體系,以綜合實(shí)力持續(xù)為行業(yè)提供高品質(zhì)的產(chǎn)品和服務(wù)。

依托前沿技術(shù)與細(xì)致化設(shè)計(jì),托托科技通過(guò)持續(xù)的技術(shù)創(chuàng)新,積極推動(dòng)光電子技術(shù)從實(shí)驗(yàn)室走向產(chǎn)業(yè)化落地,產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、生物醫(yī)療、清潔能源、消費(fèi)電子、精密制造等關(guān)鍵領(lǐng)域。托托科技致力于為各行各業(yè)高質(zhì)量發(fā)展提供高精度、高效率的光學(xué)解決方案,助力產(chǎn)業(yè)升級(jí)與突破。

Founded in 2017, TuoTuo Technology has always been committed to the development of high-end precision optical instruments. With a solid foundation in Micro and Nano  optical processing and detection, the company has developed an advanced technology matrix covering five core product lines: maskless lithography, high-precision 3D lithography, magnetic detection, photoelectric detection, and 3D microscopes. It has also established a full-chain ecosystem for design, R & D, manufacturing, sales, and consulting services, continuously providing the industry with high-quality products and services through its outstanding comprehensive strength.


Relying on cutting-edge technology and meticulous design, TuoTuo Technology actively promotes the industrialization of photo-electronic technology through continuous innovation. Its products are widely used in key areas such as semiconductor, biomedicine, clean energy, consumer electronics, and precision manufacturing. TuoTuo Technology is dedicated to providing high-precision and high -efficiency optical solutions for the high-quality development of various industries, helping to drive industrial upgrades and breakthroughs.


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產(chǎn)地國(guó)產(chǎn) 加工定制是 適用領(lǐng)域科研
托托科技 無(wú)掩模光刻機(jī),是基于DMD無(wú)掩模光刻技術(shù)打造的精密光學(xué)加工設(shè)備,突破了傳統(tǒng)有掩模光刻的制版限制,兼具高靈活性、高精度、高效率等核心優(yōu)勢(shì),可覆蓋科學(xué)研究、定制化生產(chǎn)、快速原型制造等多場(chǎng)景,廣泛應(yīng)用于微電子、集成電路、生物醫(yī)藥、光學(xué)元件等眾多領(lǐng)域,還針對(duì)不同使用需求打造了多系列細(xì)分產(chǎn)品,是微納制造領(lǐng)域的核心解決方案。
托托科技 無(wú)掩模光刻機(jī) 產(chǎn)品詳情

托托科技 無(wú)掩模光刻機(jī),是基于DMD無(wú)掩模光刻技術(shù)打造的精密光學(xué)加工設(shè)備,突破了傳統(tǒng)有掩模光刻的制版限制,兼具高靈活性、高精度、高效率等核心優(yōu)勢(shì),可覆蓋科學(xué)研究、定制化生產(chǎn)、快速原型制造等多場(chǎng)景,廣泛應(yīng)用于微電子、集成電路、生物醫(yī)藥、光學(xué)元件等眾多領(lǐng)域,還針對(duì)不同使用需求打造了多系列細(xì)分產(chǎn)品,是微納制造領(lǐng)域的核心解決方案。


核心性能指標(biāo),覆蓋多維度加工需求

1. 無(wú)掩模靈活設(shè)計(jì):省去制版的時(shí)間與資金成本,可快速修改圖案、驗(yàn)證設(shè)計(jì)想法,大幅縮短研發(fā)迭代周期;

2. 高精度加工:常規(guī)滿足1μm加工精度,適配高精度微納結(jié)構(gòu)制造;

3. 高加工效率:光刻速度可達(dá)1200 mm2/min,大尺寸樣品加工效率優(yōu)勢(shì)顯著;

4. 超大幅面可選:常規(guī)覆蓋晶圓級(jí)加工,定制可實(shí)現(xiàn)4 m2超大幅面加工,也支持2米級(jí)微納加工;

5. 高階灰度光刻:支持4096階灰度光刻,可精準(zhǔn)構(gòu)建層次復(fù)雜、細(xì)膩的微觀三維結(jié)構(gòu),拓展設(shè)計(jì)可能性。


特色功能,保障加工精準(zhǔn)與便捷

1. 直接繪圖:快速繪制圖案,便捷驗(yàn)證研發(fā)想法;

2. 精準(zhǔn)套刻:以綠光為指引光實(shí)現(xiàn)光刻前對(duì)準(zhǔn)預(yù)覽,保障套刻精度;

3. 陣列光刻/參數(shù)測(cè)試:可快速確認(rèn)工藝參數(shù),節(jié)省實(shí)驗(yàn)與生產(chǎn)時(shí)間;

4. 主動(dòng)對(duì)焦:光刻前實(shí)時(shí)對(duì)準(zhǔn),確保每次光刻聚焦清晰,提升加工一致性。


托托科技 無(wú)掩模光刻機(jī)廣泛應(yīng)用方向,覆蓋多領(lǐng)域微納制造

依托核心技術(shù)與性能優(yōu)勢(shì),設(shè)備可實(shí)現(xiàn)平面光刻、灰度光刻等多種工藝,應(yīng)用覆蓋微電子、生物、光學(xué)、量子科技等多個(gè)領(lǐng)域:

1. 基礎(chǔ)電子與微機(jī)械:二維材料電極圖案繪制、MEMS器件微米級(jí)復(fù)雜結(jié)構(gòu)加工、集成電路相關(guān)微納制造;

2. 生物醫(yī)藥:微流控芯片制造(適配單細(xì)胞分析、生物傳感器),支持超高深寬比結(jié)構(gòu)加工;

3. 光學(xué)元件與器件:微透鏡、光柵、菲涅爾透鏡等衍射結(jié)構(gòu)制造,光學(xué)衍射器件、超表面加工(實(shí)現(xiàn)光波精細(xì)操控);

4. 防偽與特種結(jié)構(gòu):高精度防偽浮雕三維微結(jié)構(gòu)制造;

5. 前沿科技:量子光學(xué)光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)刻蝕(實(shí)現(xiàn)量子態(tài)傳輸與操控);

6. 配套制造:小批量、定制化掩模版制備(支持9英寸),減少外部依賴,縮短設(shè)計(jì)周期。


關(guān)鍵詞:微流控芯片
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