詳細(xì)摘要: 關(guān)鍵詞:SiO2、AlN、Al2O3、介電膜、刻蝕、電子槍、離子槍、氧化鋁、氮化鋁、二氧化硅型號(hào):MEB400S
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詳細(xì)摘要: 關(guān)鍵詞:SiO2、AlN、Al2O3、介電膜、刻蝕、電子槍、離子槍、氧化鋁、氮化鋁、二氧化硅型號(hào):MEB400S
產(chǎn)品型號(hào):所在地:上海更新時(shí)間:2026-06-02 在線留言詳細(xì)摘要: 關(guān)鍵詞:金剛石、金屬化、釬焊、電子束蒸鍍型號(hào):MEB400S
產(chǎn)品型號(hào):所在地:上海更新時(shí)間:2026-06-02 在線留言詳細(xì)摘要: 關(guān)鍵詞:熱障層、紅外波導(dǎo)、lift-off工藝、HMET晶體管、PHMET晶體管、歐姆接觸、肖特接觸、磁性材料、MEMS封裝、約瑟夫森電路型號(hào):MEB550S
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產(chǎn)品型號(hào):所在地:上海更新時(shí)間:2026-06-02 在線留言詳細(xì)摘要: 多腔體磁控濺射團(tuán)簇系統(tǒng)(用于金屬和氧化物)
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產(chǎn)品型號(hào):所在地:上海更新時(shí)間:2026-06-02 在線留言詳細(xì)摘要: 高功率激光實(shí)驗(yàn)專用靶/相位片/ARCoating1)提供幾個(gè)nm-um薄箔靶,例如Al,Au,Cu,Ta,V,塑料,多層膜,合金靶等
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主營(yíng)產(chǎn)品:磁控濺射儀,電子束蒸發(fā)鍍膜儀,離子減薄儀,微波等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(MPCVD),化學(xué)束外延系統(tǒng),電磁場(chǎng)場(chǎng)分布測(cè)試儀,等離子處理,刻蝕機(jī),光學(xué)軟件與材料(金剛石),HFCVD,BSDF/BRED測(cè)量?jī)x,電磁場(chǎng)仿真軟件
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