HORIC L200 臥式低壓化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

參考價(jià): 面議

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

型號(hào)HORICL200
品牌
所在地北京市
更新時(shí)間2025-09-06

北方華創(chuàng)科技集團(tuán)股份有限公司

廠商性質(zhì)其他
所在地區(qū)北京市
實(shí)名認(rèn)證已認(rèn)證
產(chǎn)品數(shù)量115
人氣值2344

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公司介紹主營(yíng)產(chǎn)品

北方華創(chuàng)科技集團(tuán)股份有限公司（以下簡(jiǎn)稱“北方華創(chuàng)”）成立于2001年9月，2010年在深圳證券交易所上市，代碼002371，是目前國(guó)內(nèi)集成電路工藝裝備的企業(yè)。北方華創(chuàng)以科技創(chuàng)新為基點(diǎn)，著眼未來，致力于加快推進(jìn)北方華創(chuàng)向新型制造業(yè)的戰(zhàn)略轉(zhuǎn)型；致力于成為半導(dǎo)體基礎(chǔ)產(chǎn)品領(lǐng)域值得信賴的者；致力于提升人類智能生活品質(zhì)；致力于實(shí)現(xiàn)中國(guó)“智造強(qiáng)國(guó)”的夢(mèng)想藍(lán)圖。北方華創(chuàng)主營(yíng)半導(dǎo)體裝備、真空及鋰電裝備、精密元器件業(yè)務(wù)，為半導(dǎo)體、新能源、新材料等領(lǐng)域提供解決方案。公司現(xiàn)有六大研發(fā)生產(chǎn)基地，營(yíng)銷服務(wù)體系覆蓋歐、美、亞等主要國(guó)家和地區(qū)。未來的北方華創(chuàng)，將以半導(dǎo)體基礎(chǔ)產(chǎn)品領(lǐng)域企業(yè)的姿態(tài)登上世界舞臺(tái)，深耕發(fā)展，未來，堅(jiān)持以客戶為中心，以價(jià)值創(chuàng)造者為本，持續(xù)創(chuàng)新，推動(dòng)產(chǎn)業(yè)進(jìn)步，創(chuàng)造無限可能。

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HORICL200臥式低壓化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)HORICL200LPCVDSystemHORICL200LPCVD系統(tǒng)，主要用于半導(dǎo)體產(chǎn)線8英寸及以下晶圓淀積SiN、POLY、SiO?等薄膜，設(shè)備工藝性能好、產(chǎn)能大、可靠性高，可滿足半導(dǎo)體領(lǐng)域的多種產(chǎn)線需求

臥式低壓化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) 產(chǎn)品詳情

HORIC L200 臥式低壓化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

HORIC L200 LPCVD System

HORIC L200 LPCVD系統(tǒng)，主要用于半導(dǎo)體產(chǎn)線8英寸及以下晶圓淀積SiN、POLY、SiO?等薄膜，設(shè)備工藝性能好、產(chǎn)能大、可靠性高，可滿足半導(dǎo)體領(lǐng)域的多種產(chǎn)線需求。設(shè)備包含凈化工作臺(tái)、爐體機(jī)箱、氣源柜、真空系統(tǒng)及電氣控制系統(tǒng)五大部分，相關(guān)模塊齊全，可根據(jù)不同客戶需求進(jìn)行配置。

設(shè)備特點(diǎn)

可根據(jù)客戶需求配置多工藝組合的機(jī)臺(tái)
高可靠性、穩(wěn)定性
安全性能高，設(shè)備及所使用的元件符合國(guó)家和國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)
可提供成熟的MES系統(tǒng)解決方案
良好的工藝技術(shù)支持

產(chǎn)品應(yīng)用

晶圓尺寸
4、6、8 英寸
適用材料
硅、碳化硅、硅基氮化鎵
適用工藝
氮化硅、氧化硅、多晶硅、摻雜多晶硅、PSG、BPSG
適用領(lǐng)域
化合物半導(dǎo)體、襯底材料、科研領(lǐng)域

關(guān)鍵詞：控制系統(tǒng) 標(biāo)準(zhǔn)

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