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目錄:北方華創(chuàng)科技集團股份有限公司>>半導體裝備>>物理氣相沉積設備>> eVictor PVD Al金屬鋁薄膜物理氣相沉積系統(tǒng)

金屬鋁薄膜物理氣相沉積系統(tǒng)

  • 金屬鋁薄膜物理氣相沉積系統(tǒng)
參考價 面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
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  • 品牌
  • 型號 eVictor PVD Al
  • 廠商性質(zhì) 其他
  • 所在地 北京市
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更新時間:2025-09-06 07:44:33瀏覽次數(shù):159評價

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eVictor PVD Al 金屬鋁薄膜物理氣相沉積系統(tǒng)
eVictor PVD Al System
eVictor PVD Al設備是一款應用于12英寸集成電路領域的PVD設備,系統(tǒng)集成了高溫去氣、等離子體預清洗、高溫Al、TaN、TTN等多種工藝模塊,并實現(xiàn)在系統(tǒng)內(nèi)部的工藝整合。涉及大平臺傳輸、高溫靜電卡盤、磁控濺射源設計、厚鋁Whisker Defect控制以及軟件控制等多項關鍵技術。
設備特點
  • 的磁控濺射系統(tǒng),有效提高薄膜均勻性及靶材利用率
  • 專業(yè)的加熱基座和高溫靜電卡盤設計,具備良好的溫度均勻性
  • 全新雙腔傳輸平臺,可配置性強,可支持10個工藝模塊
  • 優(yōu)秀的Whisker Defect解決方案,降低產(chǎn)品缺陷
  • 大產(chǎn)能,低運營成本
產(chǎn)品應用
  • 晶圓尺寸
    12英寸
  • 適用材料
    鋁、氮化鉭、氮化鈦、鈦
  • 適用工藝
    Al Pad、鋁線、熱鋁
  • 適用領域
    集成電路、功率半導體、硅基微型顯示

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