Polaris TSV PVD主要由大氣平臺(tái)，真空傳輸平臺(tái)，去氣腔室（Degas），預(yù)清潔腔室和工藝腔室組成，設(shè)備采用Cluster Tool結(jié)構(gòu)，可配置多個(gè)工藝腔室、預(yù)清洗腔室和去氣腔室，適合封裝領(lǐng)域TSV粘附層、擴(kuò)散阻擋層以及種子層薄膜制備大規(guī)模生產(chǎn)。Polaris系列PVD為全自動(dòng)大產(chǎn)能設(shè)備，具有反應(yīng)腔自動(dòng)開閉蓋、晶圓自動(dòng)傳輸、工藝去氣、晶圓表面預(yù)清潔、薄膜沉積自動(dòng)化等特點(diǎn)。