EPEE i200 等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)

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型號EPEEi200
品牌
所在地北京市
更新時間2025-09-06

北方華創(chuàng)科技集團股份有限公司

廠商性質(zhì)其他
所在地區(qū)北京市
實名認證已認證
產(chǎn)品數(shù)量115
人氣值2317

產(chǎn)品標簽

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公司介紹主營產(chǎn)品

北方華創(chuàng)科技集團股份有限公司（以下簡稱“北方華創(chuàng)”）成立于2001年9月，2010年在深圳證券交易所上市，代碼002371，是目前國內(nèi)集成電路工藝裝備的企業(yè)。北方華創(chuàng)以科技創(chuàng)新為基點，著眼未來，致力于加快推進北方華創(chuàng)向新型制造業(yè)的戰(zhàn)略轉(zhuǎn)型；致力于成為半導體基礎(chǔ)產(chǎn)品領(lǐng)域值得信賴的者；致力于提升人類智能生活品質(zhì)；致力于實現(xiàn)中國“智造強國”的夢想藍圖。北方華創(chuàng)主營半導體裝備、真空及鋰電裝備、精密元器件業(yè)務(wù)，為半導體、新能源、新材料等領(lǐng)域提供解決方案。公司現(xiàn)有六大研發(fā)生產(chǎn)基地，營銷服務(wù)體系覆蓋歐、美、亞等主要國家和地區(qū)。未來的北方華創(chuàng)，將以半導體基礎(chǔ)產(chǎn)品領(lǐng)域企業(yè)的姿態(tài)登上世界舞臺，深耕發(fā)展，未來，堅持以客戶為中心，以價值創(chuàng)造者為本，持續(xù)創(chuàng)新，推動產(chǎn)業(yè)進步，創(chuàng)造無限可能。

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EPEEi200等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)EPEEi200PECVDSystemEPEEi200系列主要用于6/8英寸氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、磷硅玻璃、硼磷硅玻璃等薄膜沉積工藝，平臺式多反應(yīng)腔架構(gòu)，兼容Si、SiC、GaAs等不同襯底材料，廣泛應(yīng)用于集成電路、化合物半導體、功率半導體、半導體照明、硅基微型顯示、科研等領(lǐng)域

等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng) 產(chǎn)品詳情

EPEE i200 等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)

EPEE i200 PECVD System

EPEE i200系列主要用于6/8英寸氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、磷硅玻璃、硼磷硅玻璃等薄膜沉積工藝，平臺式多反應(yīng)腔架構(gòu)，兼容Si、SiC、GaAs等不同襯底材料，廣泛應(yīng)用于集成電路、化合物半導體、功率半導體、半導體照明、硅基微型顯示、科研等領(lǐng)域。

設(shè)備特點

的單腔雙片架構(gòu)，兼具產(chǎn)能和性能優(yōu)勢
高效傳輸系統(tǒng)，智能軟件調(diào)度算法
高效遠程等離子體清洗系統(tǒng)，良好的顆?？刂?/div>
支持氣態(tài)硅烷和液態(tài)正硅酸乙酯兩類沉積工藝

產(chǎn)品應(yīng)用

晶圓尺寸
6/8英寸兼容
適用材料
氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、非晶硅、非晶碳、PSG、BPSG
適用工藝
掩膜層沉積、鈍化層沉積、絕緣層沉積
適用領(lǐng)域
集成電路、化合物半導體、功率半導體、LED、硅基微顯、科研

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