中圖儀器SuperViewW白光干涉儀測微透鏡滿足大批量檢測要求，設(shè)備以硬核技術(shù)參數(shù)與專業(yè)檢測算法，成為微透鏡陣列納米級檢測的設(shè)備，滿足高精度、大批量的檢測要求！

1.技術(shù)原理

設(shè)備基于低相干干涉原理，搭配垂直掃描干涉（VSI）、相移干涉（PSI）雙算法，實現(xiàn)納米級垂直分辨率，可精準捕捉微透鏡陣列的三維表面高度信息，完成曲率半徑、矢高、面型誤差、表面粗糙度等核心參數(shù)的精準測量，即便參數(shù)出現(xiàn)納米級偏差也能精準識別。

2.非接觸式測量方式

檢測過程中無任何物理接觸，有效避免損傷微透鏡精密微結(jié)構(gòu)，適配非球面、高傾角等特殊結(jié)構(gòu)微透鏡的檢測需求；通過三維數(shù)據(jù)擬合技術(shù)，可快速重建微透鏡完整3D表面形貌，為參數(shù)計算提供精準數(shù)據(jù)支撐。

3.自動化檢測

·支持Mark標記點自動定位與位置糾偏，確保每個微透鏡單元測量位置精準；

·可導(dǎo)入前道工藝坐標數(shù)據(jù)，實現(xiàn)與生產(chǎn)工藝的無縫銜接；

·能完成數(shù)千至數(shù)萬個微透鏡單元的自動化批量檢測，全程無需人工干預(yù)；

·支持檢測數(shù)據(jù)的自動統(tǒng)計、合格判定與分Bin分類，檢測效率與精準度雙在線，契合微透鏡陣列量產(chǎn)階段的質(zhì)檢要求。

核心技術(shù)參數(shù)亮點

1.重復(fù)性：主流型號（如SuperView W1系列、WT3000）在測量Sa為0.2nm的硅晶片時，連續(xù)10次測量的RMS重復(fù)性可達0.005nm。

2.超高分辨率：最小可測粗糙度穩(wěn)定在0.1nm及以下，滿足半導(dǎo)體芯片、光學(xué)鏡片等超精密產(chǎn)品的嚴苛需求。

3.臺階測量高精度：臺階高度測量準確度可達0.3%~0.5%，與粗糙度測量基于同一干涉原理，精度表現(xiàn)高度一致。

4.國際標準背書：嚴格遵循ISO 25178（三維粗糙度）、ISO 10610-1:2009（臺階測量）等國際標準，確保您的數(shù)據(jù)具備行業(yè)認可度。

應(yīng)用場景

隨著AI算力需求激增，光模塊向800G、1.6T高速演進，這款設(shè)備可高效完成:

1.光通信光模塊微透鏡陣列檢測，把控核心曲率、面型誤差等參數(shù)，保障光耦合效率與信號穩(wěn)定性；

2.適配VCSEL光學(xué)耦合透鏡檢測，精準測量納米級幾何參數(shù)，避免光路偏移問題；

3.在消費電子領(lǐng)域，可實現(xiàn)AR/VR微光學(xué)器件的三維形貌檢測，滿足微光學(xué)元件的高精度質(zhì)控要求；

4.針對晶圓制造環(huán)節(jié)，完成晶圓級微透鏡陣列的批量檢測，即便晶圓上有數(shù)萬微透鏡單元，也能實現(xiàn)高效全覆蓋。

SuperViewW白光干涉儀測微透鏡滿足大批量檢測要求，一臺設(shè)備即覆蓋微光學(xué)制造多類核心應(yīng)用場景，適配企業(yè)從研發(fā)到量產(chǎn)的全流程檢測需求，是光通信、微光學(xué)器件制造企業(yè)的質(zhì)檢裝備。

如需產(chǎn)品演示視頻、行業(yè)案例手冊或免費樣品測試，可聯(lián)系中圖儀器客服獲取。

注：產(chǎn)品參數(shù)與配置以實際交付為準，中圖儀器保留根據(jù)技術(shù)升級調(diào)整相關(guān)內(nèi)容的權(quán)利，恕不另行通知。