對于需要納米級三維形貌測量的半導體、光電企業(yè)，進口設(shè)備往往價格高昂，且配套服務成本高。中圖儀器SuperViewW1系列白光干涉三維光學形貌儀，核心性能對標行業(yè)水準，同時具備更突出的價格優(yōu)勢，是企業(yè)提質(zhì)降本的優(yōu)選方案。

設(shè)備搭載自主研發(fā)的EPSI復合掃描算法，跨反射率成像能力達到行業(yè)先進水平，可穩(wěn)定完成LED刻蝕表面三維測量、超薄臺階高度檢測等高精度任務；內(nèi)置環(huán)境傳感與閉環(huán)補償系統(tǒng)，抗振動、抗溫漂能力可靠，無需額外投入大額資金搭建超凈隔振環(huán)境。

以更親民的采購成本，實現(xiàn)實驗室級的測量精度與工業(yè)現(xiàn)場的適配能力，同時本土廠商供貨周期短、配件成本低，能幫助企業(yè)在保障檢測能力的前提下，有效壓縮設(shè)備采購與運維預算。

中圖儀器SuperViewW1系列白光干涉三維光學形貌儀，以扎實的技術(shù)參數(shù)支撐高精度三維形貌測量，是LED刻蝕表面三維測量、半導體薄膜檢測的可靠設(shè)備，核心性能指標如下：

- 跨反射率成像能力：搭載EPSI復合掃描算法，可在單次掃描中自適應調(diào)節(jié)不同區(qū)域信號增益，同步完成高反光介質(zhì)層與低反光刻蝕面的成像，無需手動調(diào)節(jié)光源，可完整重構(gòu)刻蝕孔洞3D形貌。

- 環(huán)境抗擾性能：內(nèi)置千赫茲級高靈敏度環(huán)境傳感矩陣，配合閉環(huán)伺服補償算法，可實時屏蔽機械振動、聲學擾動與溫濕度波動影響，消除納米級臺階高度環(huán)境漂移，在工業(yè)現(xiàn)場維持實驗室級精度。

- 測量尺度覆蓋：可適配0.07μm超薄臺階至122μm大孔徑的全尺度微結(jié)構(gòu)檢測，支持10X、50X等多種干涉物鏡切換，兼顧大面積陣列掃描與微孔精細表征。

- 數(shù)據(jù)可靠性：陣列測量離散度低，臺階高度檢測重復性好，可為工藝迭代提供穩(wěn)定可信的數(shù)據(jù)基線。

注：產(chǎn)品參數(shù)與服務可能根據(jù)技術(shù)升級實時更新，具體以新標準為準，詳情可咨詢客服獲取完整資料。