選購納米級光學(xué)測量設(shè)備，不僅要看采購成本，更要算清全周期的使用開銷。中圖儀器SuperViewW1系列精密白光干涉光學(xué)輪廓儀，以更合理的投入覆蓋LED刻蝕、半導(dǎo)體薄膜檢測等核心需求，綜合使用成本優(yōu)勢顯著。

一方面，設(shè)備自帶EPSI復(fù)合算法與環(huán)境噪聲檢測系統(tǒng)，無需額外采購昂貴的主動氣浮減振臺，也不用依賴工程師反復(fù)調(diào)光調(diào)試，大幅節(jié)省配套硬件成本與人工工時；另一方面，一鍵式自動化掃描、批量數(shù)據(jù)統(tǒng)計功能，可顯著縮短單樣檢測周期，加快工藝迭代速度，減少因測量數(shù)據(jù)失真導(dǎo)致的試錯浪費(fèi)。

設(shè)備搭載自主研發(fā)的EPSI復(fù)合掃描算法，跨反射率成像能力達(dá)到行業(yè)先進(jìn)水平，可穩(wěn)定完成LED刻蝕表面三維測量、超薄臺階高度檢測等高精度任務(wù)；內(nèi)置環(huán)境傳感與閉環(huán)補(bǔ)償系統(tǒng)，抗振動、抗溫漂能力可靠，無需額外投入大額資金搭建超凈隔振環(huán)境。

對于需要納米級三維形貌測量的半導(dǎo)體、光電企業(yè)，進(jìn)口設(shè)備往往價格高昂，且配套服務(wù)成本高。中圖儀器SuperViewW1系列精密白光干涉光學(xué)輪廓儀，核心性能對標(biāo)行業(yè)水準(zhǔn)，同時具備更突出的價格優(yōu)勢，是企業(yè)提質(zhì)降本的優(yōu)選方案。

LED晶圓刻蝕檢測實(shí)測案例 復(fù)雜工況下穩(wěn)定輸出可靠數(shù)據(jù)

某光電企業(yè)在LED刻蝕工藝研發(fā)中，長期面臨兩大檢測難題：一是刻蝕樣件表面高反光薄膜與低反光孔底反差大，傳統(tǒng)設(shè)備需反復(fù)調(diào)光且成像不全；二是車間環(huán)境振動導(dǎo)致納米級臺階高度數(shù)據(jù)漂移，工藝迭代缺乏穩(wěn)定數(shù)據(jù)支撐。

引入中圖儀器SuperViewW1系列白光干涉儀后，通過EPSI復(fù)合掃描算法，單次掃描即可同時清晰呈現(xiàn)超薄介質(zhì)膜與刻蝕孔洞的3D形貌，0.2μm的微小膜層落差可精準(zhǔn)捕捉，陣列離散度極低；內(nèi)置的環(huán)境噪聲檢測與補(bǔ)償系統(tǒng)，在車間常規(guī)振動環(huán)境下，依然能維持?jǐn)?shù)據(jù)穩(wěn)定性，解決基線漂移問題。

實(shí)測覆蓋0.07μm超薄臺階至122μm大孔徑全尺度微結(jié)構(gòu)，檢測效率提升顯著，無需人工反復(fù)調(diào)試，為該企業(yè)的刻蝕工藝參數(shù)迭代提供了可靠的測量支撐。

注：產(chǎn)品參數(shù)與服務(wù)可能根據(jù)技術(shù)升級實(shí)時更新，具體以新標(biāo)準(zhǔn)為準(zhǔn)，詳情可咨詢客服獲取完整資料。