【儀表網(wǎng) 研發(fā)快訊】193nm深紫外(DUV)激光因具有高空間分辨率、高光子能量等特點(diǎn)，在半導(dǎo)體器件先進(jìn)制造、微納材料分析、生物醫(yī)學(xué)檢測等領(lǐng)域具有重要應(yīng)用價(jià)值。目前廣泛應(yīng)用的193nm氟化氬(ArF)準(zhǔn)分子氣體激光器存在體積大、效率低、維護(hù)成本高等問題。如果采用氮化鎵(GaN)基近紫外半導(dǎo)體激光器(輸出波長～386nm，其二倍頻波長是193nm)和深紫外倍頻晶體直接倍頻方案，可實(shí)現(xiàn)193nm深紫外激光輸出，其轉(zhuǎn)換效率有望顯著提升。然而，這一技術(shù)路徑長期面臨關(guān)鍵材料與核心器件的限制，國外僅日本名古屋大學(xué)、日亞公司等少數(shù)機(jī)構(gòu)報(bào)道了GaN基近紫外激光器。在深紫外倍頻晶體方面，發(fā)展兼具大倍頻效應(yīng)、高激光損傷閾值、深紫外相位匹配、大尺寸單晶生長等綜合性能優(yōu)異的實(shí)用化晶體一直是國際難點(diǎn)。
 

　　近期，中國科學(xué)院半導(dǎo)體研究所趙德剛研究員團(tuán)隊(duì)和中國科學(xué)院新疆理化技術(shù)研究所潘世烈研究員團(tuán)隊(duì)合作，在GaN基近紫外激光器(Optics Letters, 2024, 49: 1305)和氟化硼酸鹽深紫外非線性光學(xué)晶體(NH4B4O6F，ABF)(arXiv: 2503.05019)方面取得系列進(jìn)展的基礎(chǔ)上，采用大功率386nm GaN基近紫外激光器作為基頻光源，經(jīng)ABF深紫外非線性光學(xué)晶體直接倍頻，成功獲得193nm深紫外激光輸出(圖1)。為進(jìn)一步驗(yàn)證，研究團(tuán)隊(duì)同時(shí)采用大功率394nm的GaN基近紫外激光器作為基準(zhǔn)光源，經(jīng)深紫外非線性光學(xué)晶體直接倍頻，成功實(shí)現(xiàn)197nm深紫外激光輸出，進(jìn)一步驗(yàn)證了倍頻效果。該成果為實(shí)現(xiàn)小型化、長期穩(wěn)定的193nm深紫外激光提供了新方向。
 

　　圖1. (a)基于GaN近紫外激光器和ABF深紫外非線性晶體的直接倍頻技術(shù)原理，(b)基頻光源光譜：GaN基386nm和394nm半導(dǎo)體激光器，(c)直接倍頻后獲得的193nm、197nm深紫外激光光譜。

 

　　該成果以“Realization of 193 nm DUV laser through direct frequency doubling with GaN-based UVA laser diode and ABF crystal”為題，作為封面文章發(fā)表于《半導(dǎo)體學(xué)報(bào)》(Journal of Semiconductors)。半導(dǎo)體所梁鋒副研究員、新疆理化所張方方研究員為論文的共同第一作者，半導(dǎo)體所楊靜研究員、趙德剛研究員和新疆理化所潘世烈研究員為論文的共同通訊作者。該研究獲得了國家自然科學(xué)基金、中國科學(xué)院先導(dǎo)專項(xiàng)、中國科學(xué)院青年創(chuàng)新促進(jìn)會、天山創(chuàng)新團(tuán)隊(duì)計(jì)劃的支持。