THEORIS HO302D 12英寸立式低壓化學(xué)氣相沉積高溫氧化硅爐

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型號THEORISHO302D
品牌
所在地北京市
更新時間2025-09-06

北方華創(chuàng)科技集團(tuán)股份有限公司

廠商性質(zhì)其他
所在地區(qū)北京市
實名認(rèn)證已認(rèn)證
產(chǎn)品數(shù)量115
人氣值2285

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公司介紹主營產(chǎn)品

北方華創(chuàng)科技集團(tuán)股份有限公司（以下簡稱“北方華創(chuàng)”）成立于2001年9月，2010年在深圳證券交易所上市，代碼002371，是目前國內(nèi)集成電路工藝裝備的企業(yè)。北方華創(chuàng)以科技創(chuàng)新為基點，著眼未來，致力于加快推進(jìn)北方華創(chuàng)向新型制造業(yè)的戰(zhàn)略轉(zhuǎn)型；致力于成為半導(dǎo)體基礎(chǔ)產(chǎn)品領(lǐng)域值得信賴的者；致力于提升人類智能生活品質(zhì)；致力于實現(xiàn)中國“智造強國”的夢想藍(lán)圖。北方華創(chuàng)主營半導(dǎo)體裝備、真空及鋰電裝備、精密元器件業(yè)務(wù)，為半導(dǎo)體、新能源、新材料等領(lǐng)域提供解決方案。公司現(xiàn)有六大研發(fā)生產(chǎn)基地，營銷服務(wù)體系覆蓋歐、美、亞等主要國家和地區(qū)。未來的北方華創(chuàng)，將以半導(dǎo)體基礎(chǔ)產(chǎn)品領(lǐng)域企業(yè)的姿態(tài)登上世界舞臺，深耕發(fā)展，未來，堅持以客戶為中心，以價值創(chuàng)造者為本，持續(xù)創(chuàng)新，推動產(chǎn)業(yè)進(jìn)步，創(chuàng)造無限可能。

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THEORISHO302D12英寸立式低壓化學(xué)氣相沉積高溫氧化硅爐THEORISHO302D12InchVerticalLPCVDHTOFurnaceTHEORISHO302D通過立式低壓化學(xué)氣相沉積方式實現(xiàn)12英寸晶圓表面氧化硅薄膜的沉積，占地面積小，可大批量處理12英寸晶圓

12英寸立式低壓化學(xué)氣相沉積高溫氧化硅爐產(chǎn)品詳情

THEORIS HO302D 12英寸立式低壓化學(xué)氣相沉積高溫氧化硅爐

THEORIS HO302D 12 Inch Vertical LPCVD HTO Furnace

THEORIS HO302D通過立式低壓化學(xué)氣相沉積方式實現(xiàn)12英寸晶圓表面氧化硅薄膜的沉積，占地面積小，可大批量處理12英寸晶圓。

設(shè)備特點

的壓力控制系統(tǒng)
高精度溫度場控制技術(shù)
的顆?？刂萍夹g(shù)
優(yōu)良的薄膜均勻性
的微環(huán)境氧含量控制技術(shù)

產(chǎn)品應(yīng)用

晶圓尺寸
12英寸
適用材料
硅
適用工藝
二氧化硅低壓化學(xué)氣相淀積
適用領(lǐng)域
集成電路、功率半導(dǎo)體、硅基微型顯示

關(guān)鍵詞：控制系統(tǒng)

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