摘要 產(chǎn)品特性： 1、智能化控制芯片智能可編程控制、雙門電子互鎖、紅外線感應(yīng)吹淋、明確指示燈、緊急停止開關(guān)，體現(xiàn)更強的專業(yè)性、方便性、安全性

摘要 產(chǎn)品特性： 1、紅外線感應(yīng)自動開門系統(tǒng)和普通風淋室的不同就是，在原風淋室的基礎(chǔ)上取消閉門器，實行雙門互鎖，紅外線感應(yīng)自動開門系統(tǒng)

摘要 突破： 1.效率提高50％——四面環(huán)繞高效風淋室氣流不碰撞，離心旋轉(zhuǎn)層與張力不斷加強，加速人或物表面的塵埃粒子卷吸入氣流層

摘要 產(chǎn)品特性： 1、作用廣泛普通傳遞窗是一種潔凈室的輔助設(shè)備，主要用于潔凈室之間，非潔凈室與潔凈室之間小件物品的傳遞,以減少開門的次數(shù),把對潔凈室客觀存在或者潔凈區(qū)的污染降到程度

摘要 1、優(yōu)質(zhì)板材工作區(qū)采用砂光不銹鋼板，平整光滑耐磨

摘要 產(chǎn)品特性： 1、優(yōu)質(zhì)板材采用優(yōu)質(zhì)冷軋板噴塑外壁或不銹鋼外壁，內(nèi)壁采用不銹鋼板，防刮花、平整光滑耐磨

摘要 產(chǎn)品特性： 1、智能可編程控制雙門電子互鎖，防止交叉感染、實現(xiàn)密封要求

摘要 產(chǎn)品特性： 1、智能可編程控制雙門電子互鎖，防止交叉感染、實現(xiàn)密封要求

摘要 VGK30.25氮化鋁粉體推舟爐VGK30.25Aluminumnitridepowderpushboatfurnace氮化鋁粉體推舟爐用于氮化鋁粉體的碳熱還原法生產(chǎn)工藝

摘要 CVI330化學(xué)氣相沉積爐CVI330Chemicalvapordepositionfurnace化學(xué)氣相滲透注入工藝(CVI)是化學(xué)氣相沉積(CVD)法的一種延伸

摘要 軋分一體機CalenderandSlitter軋分一體機采用高速可靠自動換卷收放卷系統(tǒng)，實現(xiàn)穩(wěn)定準確接帶、換卷，提高生產(chǎn)效率

摘要 強力軋膜機Calender強力軋膜機采用穩(wěn)定的張力控制系統(tǒng)，實現(xiàn)高精度的軋制力控制水平，多種配置能夠滿足不同產(chǎn)能的客戶需求

摘要 單層、雙層凹版底涂機GravureCoatingMachine單層、雙層凹版底涂機具備自動放卷功能、基膜預(yù)熱功能（選用）、自動供料功能、涂布功能、干燥功能、牽引功能、糾偏功能、自動收卷等功能

摘要 漿料制備系統(tǒng)SlurryPreparingSystem漿料制備系統(tǒng)應(yīng)用于鋰離子電池正負極漿料制備工藝中，完成原料自動供料、漿料預(yù)儲及上料的專用系統(tǒng)

摘要 釹鐵硼重稀土晶界擴散全自動生產(chǎn)線NdFeBheavyrareearthgrainboundarydiffusionautomaticproductionline釹鐵硼從開始上料到鍍膜、下料、移載到擴散工藝全程自動運行

摘要CLP1000R6-2/ZM重稀土PVD連續(xù)鍍膜設(shè)備CLP1000R6-2/ZMHeavyrareearthPVDcontinuouscoatingequipment設(shè)備采用真空鍍膜技術(shù)，針對重稀土晶界擴散工藝中重稀土成膜工序進行專門設(shè)計，該設(shè)備具有常規(guī)真空鍍膜技術(shù)的...

摘要 MVF-6060180W真空擴散爐MVF-6060180WVacuumdiffusionfurnace本設(shè)備廣泛適用于燒結(jié)釹鐵硼磁性材料的擴散回火工藝熱處理以及其他熱處理工藝

摘要 NVT-HG2200-V1單晶爐NVT-HG2200-V1SingleCrystalGrowingFurnaceNVT-HG2200-V1主要應(yīng)用于伏產(chǎn)業(yè)8-12英寸單晶硅制備工藝，該機臺具有大投料量，高拉速，低能耗，自動化、智能化的優(yōu)點

摘要 CWP1200/1800臥式連續(xù)型PVD鍍膜設(shè)備CWP1200/1800Horizontalin-linePVDCoaterCWP系列產(chǎn)品陰極均水平安裝，產(chǎn)品裝夾在載板上從陰極處連續(xù)通過

摘要 FDPSeries單體式復(fù)合型PVD鍍膜設(shè)備FDPSeriesBatch-TypePVDCoaterFDP系列產(chǎn)品適用于各類形狀和尺寸的工件產(chǎn)品的全覆蓋真空鍍膜

摘要 FLVP850/1100立式連續(xù)型PVD鍍膜設(shè)備FLVP850/1100Verticalin-linePVDCoaterFLVP系列產(chǎn)品陰極均豎直安裝，產(chǎn)品裝夾在載板上從陰極處連續(xù)通過

摘要 CRJM/CZRJMSeries真空卷繞PVD鍍膜設(shè)備CRJM/CZRJMSeriesRolltoRollWebPVDCoaterCRJM/CZRJM系列產(chǎn)品主要用于柔性基材表面的真空鍍膜

摘要 VB40/50/70真空釬焊爐VB40/50/70Vacuumbrazingfurnace真空釬焊爐主要用于完成釬焊與除氣工藝

摘要 HT20/30/60氫氣釬焊爐HT20/30/60Hydrogenbrazingfurnace氫氣釬焊爐主要用于在氫氣環(huán)境下完成釬焊工藝

摘要 AMB40/50/70AMB釬焊爐AMB40/50/70AMBvacuumbrazingfurnaceAMB釬焊爐主要用于完成陶瓷基板的金屬化工藝

摘要 釹鐵硼燒結(jié)全自動生產(chǎn)線NdFeBsinteringautomaticproductionline釹鐵硼從壓機壓型工藝開始到燒結(jié)工藝結(jié)束，全程自動化進行

摘要 NVF-6060140W真空燒結(jié)爐NVF-6060140WVacuumsinteringfurnace適用于釹鐵硼磁性材料的燒結(jié)熱處理，也可用于釹鐵硼磁性材料的時效熱處理等工藝

摘要 VT40/60/100真空氣淬爐VT40/60/100Vacuumgasquenchingfurnace氣淬工藝可大幅提高鋼材的剛性、硬度、耐磨性、疲勞強度以及韌性，從而滿足各種機械零件和工具的不同使用要求

摘要 DS50脫脂燒結(jié)爐DS50Degreasingsinteringfurnace脫脂燒結(jié)爐主要用于陶瓷及金屬材料的多種燒結(jié)工藝，可實現(xiàn)產(chǎn)品的脫脂燒結(jié)一次性處理

摘要HP30/40/100/1300熱壓燒結(jié)爐HP30/40/100/1300Hotpressingsinteringfurnace熱壓燒結(jié)爐是在燒結(jié)爐的基礎(chǔ)上引入機械壓力裝置，在特定燒結(jié)模具中，同時施加高溫與一定壓力，使粉末致密與成型，主要應(yīng)用于高純靶材的燒結(jié)、陶瓷燒結(jié)...

摘要 AP30/40/60氣壓燒結(jié)爐AP30/40/60Gaspressuresinteringfurnace本產(chǎn)品應(yīng)用于金屬粉末的壓力燒結(jié)成型、陶瓷基板的壓力燒結(jié)與陶瓷結(jié)構(gòu)件的燒結(jié)，使用溫度涵蓋1500-2000℃，壓力范圍涵蓋1MPa、6MPa、10MPa

摘要 VVK50.55連續(xù)滲硅爐VVK50.55Continuoussiliconinfiltrationfurnace連續(xù)滲硅爐用于碳碳材料的高溫滲硅處理工藝

摘要 Pinnacle30012英寸槽式清洗設(shè)備Pinnacle30012InchWetBenchCleanToolPinnacle300平臺適用于集成電路、功率半導(dǎo)體、襯底材料、硅基微顯示領(lǐng)域的清洗工藝

摘要 SC308012英寸單片清洗設(shè)備SC308012InchSingleWaferCleanToolSC3080設(shè)備可同時配備多種藥液，主要用于12英寸后段和前段清洗工藝

摘要 HORISD12擴散系統(tǒng)HORISD12DiffustemHORISD12擴散系統(tǒng)主要應(yīng)用于晶硅電池制作過程中的硼/磷摻雜、氧化、退火等工藝，該設(shè)備為多管臥式爐管設(shè)備，主要由凈化臺、爐體機箱、氣源柜組成，自動化機械手集成在凈化臺內(nèi)部，實現(xiàn)工藝的自動運行

摘要 HORICD200擴散/氧化系統(tǒng)HORICD200Diffusion/OxidattemHORICD200擴散爐，主要用于半導(dǎo)體產(chǎn)線8寸及以下晶圓做擴散、氧化、退火、合金等工藝，設(shè)備工藝性能好、產(chǎn)能大、可靠性高，可滿足半導(dǎo)體領(lǐng)域的多種產(chǎn)線需求

摘要 VERICO6151ASiC高溫氧化爐VERICO6151ASiCHigh-TempOxidatorFurnaceVERICO6151ASiC高溫氧化爐具有無金屬、抗腐蝕的工藝室及真空密閉的加熱系統(tǒng)設(shè)計，確保有毒和可燃性氣體安全使用

摘要VERICA6151ASiC高溫退火爐VERICA6151ASiCHigh-TempAnnealFurnaceVERICA6151ASiC高溫退火爐具有無金屬、長壽命的加熱系統(tǒng)及特殊設(shè)計的高可靠工藝腔室，具備在氬氣、氮氣和氫氣等氣體氛圍下的高溫退火工藝，溫度可達200...

摘要 SUMERISAP302C8/12英寸封裝立式PI固化爐SUMERISAP302C8/12InchAPVerticalPolyimideCureFurnaceSUMERISAP302C立式封裝PI退火爐是面向封裝領(lǐng)域的一款專用工藝設(shè)備

摘要 BoosterSWA單片退火系統(tǒng)BoosterSWASingleWaferAnnealSystemBoosterSWA主要用于12英寸后段金屬互聯(lián)退火工藝

摘要 FLOURISX201H8英寸立式高溫氧化爐FLOURISX201H8InchVerticalHigh-TempOxidationFurnaceFLOURISX201H主要用于8英寸高溫氧化及退火工藝

摘要 FLOURISX201P8英寸立式中溫氧化爐FLOURISX201P8InchVerticalMid-TempOxidationFurnaceFLOURISX201P主要用于8英寸中溫氧化及退火工藝

摘要 FLOURISA2018英寸立式低溫退火爐FLOURISA2018InchVerticalLow-TempAnnealFurnaceFLOURISA201主要用于8英寸低溫合金化及退火工藝

摘要TENESISX308P12英寸立式大產(chǎn)能中溫氧化爐TENESISX308P12InchVerticalLargeBatchMid-TempOxidationFurnaceTENESISX308P為立式單腔大產(chǎn)能爐管系統(tǒng)，工藝處理過程實現(xiàn)了高度自動化，該系統(tǒng)主要由傳輸...

摘要 THEORISX302P12英寸立式中溫氧化爐THEORISX302P12InchVerticalMid-TempOxidationFurnaceTHEORISX302P主要用于12英寸600℃-1000℃氧化及退火工藝