摘要 ErisE120A8英寸單片常壓硅外延系統(tǒng)ErisE120A8InchSingleWaferAtmosphericPressureSiliconEpitaxySystemErisE120A主要用于5、6、8英寸硅外延工藝

摘要 EstherE320A8英寸單片常壓硅外延系統(tǒng)EstherE320A8InchSingleWaferAtmosphericPressureSiliconEpitaxySystemEstherE320A主要用于5、6、8英寸硅外延工藝

摘要 HesperE230A12英寸單片常壓硅外延系統(tǒng)HesperE230A12InchSingleWaferAtmosphericPressureSiliconEpitaxySystemHesperE230A適用于12英寸N/P硅外延生長(zhǎng)

摘要 ErisE120R8英寸單片減壓硅外延系統(tǒng)ErisE120R8InchSingleWaferReducedPressureSiliconEpitaxySystemErisE120R主要用于埋層外延、選擇性外延、多晶外延等多種特色工藝的運(yùn)行

摘要 EstherE320R8英寸單片減壓硅外延系統(tǒng)EstherE320R8InchSingleWaferReducedPressureSiliconEpitaxySystemEstherE320R主要用于體硅外延、埋層外延、選擇性外延等多種特色工藝的運(yùn)行

摘要EPEEi200等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)EPEEi200PECVDSystemEPEEi200系列主要用于6/8英寸氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、磷硅玻璃、硼磷硅玻璃等薄膜沉積工藝，平臺(tái)式多反應(yīng)腔架構(gòu)，兼容Si、SiC、GaAs等不同襯底材料，廣泛應(yīng)用于集成電路、化合...

摘要 iTopsSeriesPVDAlN濺射系統(tǒng)iTopsSeriesPVDAlNSputterSystemiTopsPVDAlN濺射系統(tǒng)主要用于2、4、6英寸AlN沉積工藝

摘要 iTopsSeriesPVDITO濺射系統(tǒng)iTopsSeriesPVDITOSputterSystemiTops濺射系統(tǒng)主要用于4、6、8英寸ITO沉積工藝

摘要 PolarisSeries8英寸物理氣相沉積系統(tǒng)PolarisSeries8InchPVDSystemPolaris系列主要用于8寸及以下晶圓金屬薄膜沉積工藝

摘要PolarisSeries8/12英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng)PolarisSeries8/12InchPVDSystemPolaris系列PVD系統(tǒng)主要由大氣平臺(tái)，真空傳輸平臺(tái)，去氣腔室（Degas），預(yù)清潔腔室和工藝腔室組成，設(shè)備采用ClusterTool結(jié)構(gòu)，可配置...

摘要 PolarisSeries12英寸背面金屬物理氣相沉積系統(tǒng)PolarisSeries12InchBacksideMetalPVDSystemPolaris系列金屬薄膜物理氣相沉積系統(tǒng)主要由大氣平臺(tái)

摘要PolarisSeries硅通孔物理氣相沉積系統(tǒng)PolarisSeriesTSVPVDSystemPolarisTSVPVD主要由大氣平臺(tái)，真空傳輸平臺(tái)，去氣腔室（Degas），預(yù)清潔腔室和工藝腔室組成，設(shè)備采用ClusterTool結(jié)構(gòu)，可配置多個(gè)工藝腔室、預(yù)清洗腔...

摘要 eVictorSeries8英寸物理氣相沉積系統(tǒng)eVictorSeries8InchPVDSystemeVictor系列設(shè)備主要用于8英寸晶圓金屬薄膜沉積工藝

摘要 eVictorPVDAl金屬鋁薄膜物理氣相沉積系統(tǒng)eVictorPVDAlSystemeVictorPVDAl設(shè)備是一款應(yīng)用于12英寸集成電路領(lǐng)域的PVD設(shè)備，系統(tǒng)集成了高溫去氣、等離子體預(yù)清洗、高溫Al、TaN、TTN等多種工藝模塊，并實(shí)現(xiàn)在系統(tǒng)內(nèi)部的工藝整合

摘要 HSEM200深硅刻蝕機(jī)HSEM200DeepSiliconEtcherHSEM200主要用于4/6/8英寸深硅干法刻蝕工藝

摘要 ELEDE®380FPSS刻蝕機(jī)ELEDE®380FPSSEtcherELEDE®380F刻蝕機(jī)是應(yīng)用于LED襯底刻蝕工藝的等離子體干法刻蝕機(jī)，配置單/雙反應(yīng)腔、托盤(pán)式、多片TrayinTrayout全自動(dòng)作業(yè)

摘要Pinnacle2008英寸槽式清洗設(shè)備Pinnacle2008InchWetBenchToolPinnacle200平臺(tái)適用于8英寸waferrecycle,PRStrip,B-clean,STDclean,oxideremoval,metalremoval,H3P...

摘要 HSEP300深硅刻蝕機(jī)HSEP300DeepSiliconEtcherHSEP300主要用于12英寸硅刻蝕

摘要 GSEC200多功能刻蝕機(jī)GSEC200GeneralSemiconductorEtcherGSEC200采用高密度等離子體源，刻蝕速率高、均勻性好、顆?？刂颇芰?qiáng)、易維護(hù)、性能穩(wěn)定

摘要 GDEC200高密度刻蝕機(jī)GDEC200HighDensityEtcherGDEC200是應(yīng)用于化合物半導(dǎo)體、科研領(lǐng)域的全自動(dòng)化高密度等離子體高速刻蝕機(jī)

摘要 GSEV200高精度刻蝕機(jī)GSEV200HighPrecisionEtcherGSEV200高精度等離子體刻蝕機(jī)適用于8英寸低損傷刻蝕工藝

摘要 GSES200高精度刻蝕機(jī)GSES200HighPrecisionEtcherGSES200是針對(duì)低損傷工藝的專用刻蝕設(shè)備，兼容ALE工藝，刻蝕速率精細(xì)可控，側(cè)壁及底部損傷小、均勻性好，易維護(hù)，性能穩(wěn)定

摘要 PSEV300Di封裝鈍化層刻蝕機(jī)PSEV300DiPassivationEtcherPSEV300Di為高密度等離子體刻蝕機(jī)，適用于12英寸無(wú)機(jī)復(fù)合膜層，有機(jī)物刻蝕等工藝

摘要 ACEi300去膠機(jī)ACEi300AsherACEi300為高密度等離子體去膠機(jī)，主要用于8/12英寸光刻膠干法刻蝕

摘要 PSEV300深硅刻蝕機(jī)PSEV300DeepSiliconEtcherPSEV300主要用于12英寸深硅刻蝕，同時(shí)兼具Bosch/Non-Bosch工藝，實(shí)現(xiàn)多工藝領(lǐng)域覆蓋

摘要 NMC612G12英寸金屬刻蝕機(jī)NMC612G12InchMetalEtcherNMC612G是電感耦合高密度等離子體干法刻蝕機(jī)，主要用于集成電路、功率半導(dǎo)體、硅基微型顯示領(lǐng)域

摘要NMC612M12英寸氮化鈦金屬硬掩膜刻蝕機(jī)NMC612M12InchTiNMetalHardMaskEtcherNMC612M12英寸氮化鈦金屬硬掩膜刻蝕機(jī)是應(yīng)用于40-28nm制程集成電路的金屬干法刻蝕設(shè)備，用于氮化鈦金屬硬掩膜、高K值介質(zhì)刻蝕、鎢/鈦/鉭等金屬及...

摘要 NMC612D12英寸硅刻蝕機(jī)NMC612D12InchSiliconEtcherNMC612D應(yīng)用于12英寸干法刻蝕工藝，主要應(yīng)用于集成電路領(lǐng)域淺溝槽隔離刻蝕、柵極刻蝕、側(cè)墻刻蝕等制程，具有豐富的工藝調(diào)試手段、較高的刻蝕均勻性以及量產(chǎn)穩(wěn)定性

摘要 NMC612C12英寸硅刻蝕機(jī)NMC612C12InchSiliconEtcherNMC612C應(yīng)用于12英寸干法刻蝕工藝，深耕集成電路、功率半導(dǎo)體等領(lǐng)域，已在客戶端穩(wěn)定量產(chǎn)超過(guò)十年

摘要 NMC508Gt深槽刻蝕機(jī)NMC508GtDeepTrenchEtcherNMC508Gt為高密度等離子體刻蝕機(jī)，適用6/8英寸硅深槽干法刻蝕工藝

摘要 NMC508RIE介質(zhì)刻蝕機(jī)NMC508RIEDielectricEtcherNMC508RIE為電容耦合等離子體干法刻蝕機(jī)，適用6/8英寸介質(zhì)層刻蝕工藝，具有高刻蝕速率和均勻性，工藝類型覆蓋前道和后道所有介質(zhì)刻蝕

摘要 NMC508M金屬刻蝕機(jī)NMC508MMetalEtcherNMC508M為高密度等離子體刻蝕機(jī)，適用6/8英寸金屬干法刻蝕工藝

摘要 NMC508C/G多晶硅刻蝕機(jī)NMC508C/GPolysiliconEtcherNMC508C/G為高密度等離子體刻蝕機(jī)，適用6/8英寸多晶硅、硅等干法刻蝕工藝

摘要UVCSeries紫外線固化爐UVCSeriesUVCureUVC系列紫外線固化爐外形緊湊，能對(duì)應(yīng)G4.5～G10.5范圍內(nèi)的Panel規(guī)格，設(shè)備提供的UV照射光強(qiáng)充足均勻，能準(zhǔn)確量化監(jiān)控，并實(shí)現(xiàn)光路照度調(diào)節(jié)閉環(huán)控制，設(shè)備自動(dòng)化程度高、可靠性高、固化效果良好，主要表現(xiàn)...

摘要 TCUSeries精密恒溫恒濕機(jī)TCUSeriesThermalControlUnitTCU精密恒溫恒濕機(jī)在基板曝光前可保持基板表面曝光前溫度的均勻性

摘要 HPUSeries預(yù)防霧化單元HPUSeriesHazingPreventUnitHPU系列預(yù)防霧化單元應(yīng)用于平板顯示客戶、集成電路客戶的曝光機(jī)鏡面防霧化，祛除吸入曝光機(jī)中的AMC污染物

摘要 TAUSeries離子微粒吸附設(shè)備TAUSeriesThermalAMCUnitTAU系列離子微粒吸附設(shè)備在面板生產(chǎn)中主要應(yīng)用于曝光機(jī)設(shè)備，用于去除空氣中可能會(huì)降低曝光機(jī)鏡組折射率的有害物質(zhì)

摘要 WS-PE100/150倒片機(jī)WS-PE100/150WaferSorterWS-PE100/150倒片機(jī)中包含1臺(tái)6軸機(jī)械手組件，設(shè)備前端設(shè)有6個(gè)Loadport工位，每3個(gè)對(duì)應(yīng)1個(gè)腔室

摘要 WS-ALN100/150倒片機(jī)WS-ALN100/150WaferSorterWS-ALN100/150倒片機(jī)中包含1臺(tái)6軸機(jī)械手組件，設(shè)備前端設(shè)有6個(gè)Loadport工位，每3個(gè)對(duì)應(yīng)1個(gè)腔室

摘要 QL氣路系統(tǒng)QLGasCircuitSystem 氣路盤(pán)是七星流量計(jì)開(kāi)發(fā)的氣路輸送系統(tǒng)的解決方案，該產(chǎn)品通過(guò)對(duì)氣路原理圖的設(shè)計(jì)、加工和測(cè)試，以隔膜閥、調(diào)壓閥、壓力傳感器、過(guò)濾器、MFC等零部件實(shí)現(xiàn)對(duì)多種工藝氣體的壓力調(diào)節(jié)、純度過(guò)濾、流量控制等功能

摘要 TRUSeries熱回收系統(tǒng)TRUSeriesThermalRecyclingUnitOven設(shè)備是目前TFT產(chǎn)線耗電量較大的設(shè)備，Oven設(shè)備熱排管道排出的是230℃的高溫有機(jī)廢氣（光刻膠升華物），大量的熱能被浪費(fèi)掉

摘要 LCW9210 系列智能溫控面板

摘要 ●自主研發(fā)的一款新型計(jì)量產(chǎn)品

摘要 產(chǎn)品可采集實(shí)時(shí)溫度、濕度數(shù)據(jù)，實(shí)時(shí)顯示，并可通過(guò)GPRS無(wú)線傳輸將歷史數(shù)據(jù)傳輸至云端，以供查看、分析。

摘要 典型室溫采集